国内光刻机多少纳米

国产最新光刻机多少纳米（中国首台28nm光刻机问世）

芯中国制造“芯”！如果华为在通信技术领域的异军突起没有直接威胁到西方发达国家的核心利益，美国也不会如此不顾一切地以一个国家的实力去对付一个企业。当然，我们老百姓也不会关注芯片，芯片本来就是属于科技领域的。如今，在中国的大街小巷和餐馆里，最热门的话题就是“华为5G”和“芯片”。

人们不仅惊讶于中国的科技水平已经达到这种程度，也担心中国何时能突破高端芯片的技术封锁。毕竟我们很多人都知道，我们错过了第一次和第二次工业革命之后，我们的国家落后了两百多年，所以大家都知道下一次工业革命的重要性。碰巧的是，华为在5G方面的全球领先地位让我们看到，中国不仅可以赶上第四次工业革命，甚至可以在很大程度上引领它。每个人都很兴奋。

然而，目前我们不得不认识到，中国与西方发达国家和企业在半导体集成电路方面还有很大差距。就在这个节骨眼上，偏偏美国开始歇斯底里地打击中国的科技企业，企图减缓中国半导体领域的发展。所以，我们很着急。中国何时能突破芯片的技术封锁？

当然，担心解决不了任何问题。如果担心有用，那些研究人员和科学家是干什么的？一方面，我们在着急的同时，也不得不清醒地认识到，即使在西方国家联手封杀我们芯片技术的背景下，我们自己的科技企业还是取得了突破性的研究成果。

例如，中国现有的世界闻名的北斗全球定位导航卫星，其中的三号芯片已成功突破22纳米的上限，已加班加点地开发出能够生产22纳米的掩模对准器。这个消息让全国科技界兴奋不已。

光刻机国内突破22纳米，差距还是很大的。为什么研究人员如此兴奋？

不明所以的部分网友很好奇。现在国际上最顶尖的芯片是5nm制程工艺，甚至3nm制程工艺也已经在研发中。为什么我们刚到22nm，国内科研人员就兴奋了？其实原因很简单。比如在你极度饥饿的时候，别说给你一桌美食，就是给你一个淡而无味的白面馒头，你也能吃的津津有味！

在上海微电子技术突破之前，我国国产光刻机还停留在只制造90nm芯片的阶段。这次中国从90nm突破到22nm，意味着光刻机制造的一些关键核心领域已经国产化。掌握核心技术的重要性不言而喻。突破关键区域后，高阶光刻机的RD速度只会越来越快。国产光刻机突破封锁，成功研发22nm光刻机。中国芯逐渐崛起。

与此同时，西方发达国家硅基芯片的制造已经逼近物理极限，“摩尔定律”正在逐渐失效，中国的芯片技术也在不断突破。在这种权衡下，我们国家的芯片制造能力赶上世界领先水平只是时间问题。更重要的是，我国也在同步研究更有竞争力的“碳基芯片”。如果一旦研制成功，我们甚至不需要再依赖光刻机，那么西方国家的封锁措施也将土崩瓦解。

所以不能只是焦虑，还是要对中国芯片领域的发展充满信心。

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