11月17日,高通抢先于明年CES大会来临之前,首先发布旗下新一代旗舰芯片骁龙835。据悉,该芯片采用三星10nm工艺制造,性能比前一代提升27%,整体功耗降低高达40%。近日,一组骁龙835规格参数图已经在网上曝光,骁龙835将采用4+4 8核心数,使用自主研制的Kryo架构,最高频率可达到3GHz以上,并支持最新 Quick Charge 4 快充技术。
今年10月,三星宣布率先在业界实现了10纳米 FinFET工艺的量产。与其上一代14纳米FinFET工艺相比,三星10纳米工艺可以在减少高达30%的芯片尺寸的基础上,同时实现性能提升27%或高达40%的功耗降低。通过采用10纳米FinFET工艺,骁龙835处理器将具有更小的芯片尺寸,让OEM厂商能够在即将发布的产品中获得更多可用空间,以支持更大的电池或更轻薄的设计。制程工艺的提升与更先进的芯片设计相结合,预计将会显著提升电池续航。
最新骁龙835处理器将支持Quick Charge 4快速充电,比起Quick Charge 3.0,其充电速度提升20%,充电效率提升30%。另外其具备更小的芯片尺寸,能为手机厂商提供更灵活的内部空间设计。
目前骁龙835已经开始进行生产,不过它要等到2017年上半年才能正式出货,搭载这款处理器的手机也会在此时推出。
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