在半导体光敏材料两端装上电极引线,将其封装在带有透明窗的管壳里就构成光敏电阻,
为了增加灵敏度,两电极常做成梳状。用于制造光敏电阻的材料主要是金属的硫化物、
硒化物和碲化物等半导体。
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用于制造光敏电阻的材料主要是金属的硫化物、硒化物和碲化物等半导体。通常采用涂敷、喷涂、烧结等方法在绝缘衬底上制作很薄的光敏电阻体及梳状欧姆电极,然后接出引线,封装在具有透光镜的密封壳体内,以免受潮影响其灵敏度。光敏电阻的原理结构如图2.6.1所示。在黑暗环境里,它的电阻值很高,当受到光照时,只要光子能量大于半导体材料的禁带宽度,则价带中的电子吸收一个光子的能量后可跃迁到导带,并在价带中产生一个带正电荷的空穴,这种由光照产生的电子—空穴对增加了半导体材料中载流子的数目,使其电阻率变小,从而造成光敏电阻阻值下降。光照愈强,阻值愈低。入射光消失后,由光子激发产生的电子—空穴对将逐渐复合,光敏电阻的阻值也就逐渐恢复原值。
光敏电阻是一种随着外界光线强弱变化而变化的电阻器,照射的光线强,电阻值就会减小,反之,就会增大。常用的材料为硫化镉,另外还有硒、硫化铝、硫化铅等半导体材料。光敏电阻一般用于光测量、光控制、及光电转换等。欢迎分享,转载请注明来源:内存溢出
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