常用研磨膏有:
刚玉类研磨膏--主要用于钢铁件研磨
碳化硅、碳化硼类研磨膏--主要用于硬质合金、玻璃、陶瓷和半导体等研磨
氧化铬类研磨膏--主要用于精细抛光或非金属类的研磨
金刚石类研磨膏--主要用于钨钢模具、光学模具、注塑模具等研磨抛光金相分析实验过程中的研磨抛光,牙科材料(义齿)研磨抛光,牙科材料(义齿)研磨抛光,硬质合金等高硬度材料的研磨。
抛光膏(polishingpaste)别名抛光膏、抛光皂。抛光蜡的重要成份:以高档脂肪酸与高档脂肪醇天生的酯类为重要成份、来源于动动物的自然蜡如鲸蜡、蜂蜡、羊毛蜡、巴西棕榈蜡、小烛树蜡、木蜡芬芳蜡;高岭土厂家以碳氢化合物为重要成份的矿物性的自然蜡如液体白腊,凡士林、白腊、微晶蜡、白蜡、褐煤蜡;经化学改性的自然蜡如各类羊毛蜡化学改性衍生物等。
研磨材料:
研磨材料是涂覆类磨料、拉丝类磨料、抛光类磨料的总称,主要对工件表面进行打磨、拉丝和抛光。研磨材料一般都具有较高的硬度、韧性和规则形状。研磨材料属于“五金工具”类。
种类:
研磨材料属于“五金工具”类。研磨材料中的磨具材料通常包括:
涂覆类:钢纸磨片、砂纸、砂带。
尼龙类:工业百洁布、尼龙环带、尼龙轮、飞翼轮。
抛光类:陶瓷砂、抛光蜡、抛光膏、折布轮、麻布轮、抛光液等其他磨具磨料。汉通实业专业进口国外知名研磨材料,网站内详细资料可供参考。
研磨材料用途:
用于材料抛光的物质,可用于抛光玻璃、金属、皮革、半导体、塑料,宝石.玉器.不锈钢的研磨抛光等。生产研磨材料,磨料,磨具和抛光材料。
如玻璃抛光采用氧化铁红、二氧化锡、氧化铝、氧化铈、碳酸钡、白垩、陶土、硅藻土等粉状混合物,与水等配合成悬浮液后使用。
金属和塑料抛光等用固体油膏。
常用的有四种抛光膏。
(1)白色抛光膏。由石灰及硬脂酸、脂肪酸、漆脂、牛油、羊油、白蜡等配合而成,用于镍、铜、铝和胶木等的抛光。
(2)黄色抛光膏。由长石粉及漆脂、脂肪酸、松香、黄丹、石灰、土红粉等配合而成,用于铜、铁、铝和胶木等的抛光。
(3)绿色抛光膏。由脂肪酸和氧化铬绿等配合而成,用于不锈钢和铬等的抛光。
(4)红色抛光膏。由脂肪酸、白蜡、氧化铁红等配合而成,用于金属电镀前抛光以及抛光金、银回光等。
1965年美国孟山都公司在世界上首先提出了二氧化硅溶胶和凝胶应用于硅晶圆片的抛光加工的专利。从此,半导体用抛光液(slurry)成为了半导体制造中的重要的、必不缺少的辅助材料。半导体硅片抛光工艺是衔接材料与器件制备的边沿工艺,它极大地影响着材料和器件的成品率,并肩负消除前加工表面损伤沾污以及控制诱生二次缺陷和杂质的双重任务。在特定的抛光设备条件下,硅片抛光效果取决于抛光剂及其抛光工艺技术。随着集成电路的集成度的不断提高,相应的要求亦有所提高,不但直径要增大,技术要求也相应地提高,并不断有新的要求出现。采用SiO2抛光液进行硅片抛光加工,目前多采用化学机械抛光(CMP)技术。抛光工艺中有粗抛光和精抛光之分,故有粗抛光液和精抛光液品种之分。预计在2005年-2010年期间,在我国半导体抛光片业内整体需求抛光液量,每年会以平均增长率为25%比率的增长。2004年间使用SiO2抛光液总共约是157吨。其中粗抛液有约126吨, 精抛液有约31.5吨。
目前在我国半导体硅抛光片加工中,所使用的抛光液绝大多数都靠进口。国外半导体硅抛光液的市场占有率较高生产厂家,主要有美国Rodel &Onden Nalco、美国的DUPONT公司、日本FUJIMI公司等。尽管我国目前在抛光液行业现已发展到有几十家的企业,但是真正涉足到半导体硅片抛光液制造、研发方面的企业很少。无论是产品质量上、还是在市场占有率方面,国内企业都表现出与国外厂家具有相当的差距。
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