半导体的生产流程

对身体有害。

半导体产业属于重污染企业，工厂内会有大量的酸性气体。这些气体来自于晶圆的蚀刻、清洗等过程。如HCl、HNO3、NH4OH等气体都很容易产生大量的浓烟，这些烟雾中含有刺激性且含毒性的NO2等等。

由于半导体制造的过程中会需要大量使用光阻液、显影液等等，这些溶液主要是有机物质，因此在蚀刻、清洗、薄膜生长等过程中，会有大量的有机溶剂被使用，其中就包括二甲苯、丙酮、苯、CCl4、CF4、CCl2F2等等，其中苯就是高毒性的一级致癌物。

半导体工厂对有害物质实施的措施

为了防止这些污染伤害员工、污染环境，半导体工厂需要有极为严格的污染防治措施，包括实时处理工作场所的空气、妥善处理生产废料。

尤其是快速发展的亚微米工艺对生产现场的空气洁净度要求特别高，所有半导体加工设备都必须放置在与灰尘隔离的封闭空间中，即为洁净室。

洁净室的洁净度有一个公认的标准，以10类为例，是指在单位立方英寸的洁净室空间内，平均只有10个粒径在0.5微米以上的粉尘，所以Class数越少，清洁度越好，当然成本也越贵。同时，也是洁净室设备厂商保证洁净空间安全、舒适、节能、高效。