半导体工艺废气如何处理？

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半导体行业中使用的清洗剂、显影剂、光刻胶、蚀刻液等溶剂中含有大量有机物成分，在工艺过程中，这些有机溶剂大部分通过挥发成为废气排放。其废气的主体是VOCs，同时废气中还混合了HCl、氨、HF等危险污染物。

半导体有机废气处理办法

采用RTO设备处理

RTO蓄热式氧化炉是在高温下将可燃废气氧化成氧化物和水，净化废气，并回收废气分解时所释放出来的热量，废气分解效率达到99%以上，热回收效率达到95%以上。

直接燃烧法处理

有机废气风管废气收集→沸石转轮吸附浓缩→直燃炉（TO）→烟囱排气达标排放。

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NMP是N—甲基吡咯烷酮的化学物质。

无色透明液体，沸点203℃，闪点95℃，能与水混溶，溶于乙醚，丙酮及各种有机溶剂，稍有氨味，化学性能稳定，对碳钢、铝不腐蚀，对铜稍有腐蚀性。具有粘度低，化学稳定性和热稳定性好，极性高，挥发性低，能与水及许多有机溶剂无限混溶等优点。

用过的、脏废的甲基吡咯烷酮因其沸点比较高，所以不能采用直接回收方法，可以通过溶剂回收系统，经真空减压加热，减压至5KPa（A），加热至130℃—150℃可以将NMP回收，残余的NMP聚合物及杂质排出系统送电厂焚烧处理，保证了回收品质和废弃物的处理。

NMP

指在一定温度及压力下（通常是温度为298K，压力为100kPa的标准状态），一定质量的溶质溶解于溶剂中产生的热效应，等于一摩尔的溶质溶解在大体积的溶剂时所发出或吸收的热量，NMP是高效选择性溶剂，高沸点、腐蚀性小、溶解度大、粘度低、挥发度低、稳定性好，易回收等优点。

NMP在电子行业里的用途主要用作聚偏二氟乙烯的溶剂等，以及锂离子电池的电极辅助材料；可用于光刻胶脱除液，LCD液晶材料生产；应用于医药生产的溶剂；半导体行业精密仪器、线路板的洗净。