国产光刻机真实现状

中国的光刻机现在达到22纳米。在上海微电子技术突破之前，我国国产光刻机还停留在只制造90nm芯片的阶段。这一次中国从90nm突破到22nm，意味着光刻机制造的一些关键核心领域实现了国产化。掌握核心技术的重要性不言而喻。突破关键区域后，高阶光刻机的R&D速度只会越来越快。国产光刻机突破封锁，成功研发22nm光刻机。中国芯逐渐崛起。随着信息社会的快速发展，手机、电脑、电视等电子设备变得越来越“迷你”。从以前的“手机”到现在只有几个硬币厚的时尚手机，从老式的矮胖电视到现在的轻薄液晶电视，无一不离开集成电路的发展，也就是我们通常所说的“芯片”。自从1958年世界上第一块集成电路问世以来，体积越来越小，性能却越来越强。光刻机是半导体芯片制造行业的核心设备。以光刻机为代表的高端半导体设备支撑着集成电路产业的发展，芯片越来越小，集成电路越来越多，可以把终端做得小而精致。2002年，光刻机被列入国家863重大科技攻关计划，由科技部和上海市共同推动成立上海微电子设备有限公司(以下简称“SMEE”)。2008年，国家启动了“02”重大科技项目，持续攻关。经过十余年的研发，我国基本掌握了高端光刻机的集成技术，部分掌握了核心部件的制造技术，成为集光学、机械、电子等多学科前沿技术于一体的“智能制造行业的珠穆朗玛峰”。

老美为了限制华为等高 科技 中企的发展，不惜修改规则、破坏全球芯片产业链的平衡，实施了令全球半导体市场为之侧目的芯片禁令。

作为推动 科技 发展的“粮食”，芯片的重要性不言而喻，经过此次芯片“卡脖子”之痛，我们彻底认识到了搭建一条完善半导体产业链的重要性。

然而，由于此前过度依赖海外进口，导致我们在有些关键材料、技术、设备等多个细分领域都有着较大的短板，比如全球只有ASML能生产的EUV光刻设备，堪称是我们实现高端芯片国产化路上最大的“藩篱”。

EUV光刻机作为半导体产业链中最复杂、最精密的设备之一，每台价值高达1.2亿美元，所含精密零件高达十万个，更重要的是，它糅合了全球很多国家的顶尖技术，比如美国的光源、瑞士的机床、德国的镜头等等。不管是ASML或者是台积电，几乎都不看好我们能突破这个壁垒。

但是要知道，再尖端的技术设备也是人造的，而非神造的。

在这关键时刻，中科院、清北高校等顶尖科研机构挺身而出，主动接过光刻研发的重任，并成立专项攻关小组，从EUV最核心的设备入手，来逐一进行破冰。

功夫不负有心人，在科学家们与 科技 企业的共同努力之下，EUV光刻设备的三项核心技术“双工件台系统、光源、光学镜头”先后被攻克。

在双工件台系统领域，北京华卓精科早在2019年底就实现了国产化，成为了继ASML之后，全球第二家掌握该技术的企业。其生产的双工件台应用领域非常广泛，不仅有 65nm及以下节点的ArF干式、浸没式步进扫描光刻机、KrF步进扫描光刻机；而且，单台系列产品还适用于i线、g线步进扫描光刻机及封装光刻机等

在光源方面，唐传祥教授带领的清华科研团队，通过SSMB工作原理， 探索 出了一种加速离子光源“稳态微聚束”，波长可从太赫兹覆盖到极紫外光波段，而极紫外光正是EUV的核心光源。

而近日，央视报道了“光学镜头”的好消息。

中科院研发出的国内首台高能同步辐射光源设备，已步入安装阶段，且工程量完成了70%以上。这是全球最亮的第四代光源之一，该设备的落地，将为国内企业对于光学镜头的研发提供技术支持与保障。

随着EUV三大核心技术的破冰，国产高精度光刻设备的到来不会太久，毕竟我国拥有着全球最大的制造市场，EUV设备的零件根本不是什么大问题。

当然，只有设备，没有芯片制造产线也是不行的。

好消息是，从去年到现在，我国有8座晶圆厂处于在建状态，预计2022年便可全部完工。这意味着，我们不仅有机会进军高端芯片市场，即便已站稳脚跟的中低端芯片市场，其产能也能迎来喷井式的爆发。

至于老美此前卖给我们的高价芯片，就从此让它烂在美企的仓库里吧。

在芯片禁令之初，美国院士就曾发出忠告Meserve：不卖给中国芯片，只会加速他们的研发脚步，或许三五年时间，他们就能彻底摆脱美国市场，到时候，以出口为主的美芯片就真的无所适从了。

事实也的确如此，在华为等中企受到芯片断供影响的同时，美半导体市场一样损失惨重，国际半导体协会SEMI曾统计过，在不卖给中企芯片的半年时间里，美半导体市场损失了近1100亿，而且还失去了很多的高薪岗位。

如今的“中国芯”势如破竹，美国院士的预言即将成真，而美半导体所遭受的损失必然还将继续，不过，这一切都是它自食其果。

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