在化学研究领域,氟的发现过程堪称是史上参加人数最多、危险最大,同时又是最具难度的研究课题,为了获得单质氟,多少历史上知名的化学家牺牲了自己的身体健康,甚至于献出了自己宝贵的生命。
半导体的生产是有重污染的。首先,半导体工厂中会有大量的酸性气体(这些气体来自蚀刻和清洗晶圆等)。其次,由于光刻胶溶液、显影液等用量较大。用在半导体制造过程中,这些溶液主要是有机物质,所以在蚀刻,清洗、薄膜生长等过程中。将使用大量的有机溶剂,包括二甲苯、丙酮、苯、四氯化碳、四氯化碳、二氯化碳F2等。其中,苯是一种剧毒的一级致癌物。为了防止这些污染伤害员工和污染环境,半导体工厂需要采取极其严格的污染预防措施,包括工作场所空气的实时处理、生产废物的妥善处理等。可以说,如果污染治理的任何一个环节出现问题,都有可能对员工身体造成很大的伤害,也有可能对周围环境造成很大的污染。半导体晶圆厂主要生产的产品是半导体晶体棒或是半导体晶片。常见的有硅片、镓砷片、铟磷片等等。其主要原料是含有上述元素的化合物,至于毒性,要具体分析。原料上,二氧化硅并没有毒,但是粉末状的二氧化硅气溶胶就会引起尘肺和肺癌,就是有毒的。
另外,半导体厂常用的掺杂原料多数有毒,比如硅烷、砷烷等,或是三甲基镓等等化合物。它们或直接是剧毒物质,或其与空气、水等反应后生成的物质有毒。另外,传统生产晶圆的厂,会对晶体棒进行切割,其加工过程中产生的粉末也是有害的,原理和粉尘差不多。
扩展资料晶圆制造厂把这些多晶硅融解,再在融液里种入籽晶,然后将其慢慢拉出,以形成圆柱状的单晶硅晶棒,由于硅晶棒是由一颗晶面取向确定的籽晶在熔融态的硅原料中逐渐生成,此过程称为“长晶”。
硅晶棒再经过切段,滚磨,切片,倒角,抛光,激光刻,包装后,即成为集成电路工厂的基本原料——硅晶圆片,这就是“晶圆”。
参考资料来源:百度百科-晶圆
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