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EUV光刻机号可以说是人类工业史上的皇冠,其内部的零部件就达到了10万颗,背后还有5000多家供应商,所以说,单凭一个国家的 科技 水准,是很难制造出完整EUV光刻机的。
谈到光刻机就肯定避免不了芯片,当下芯片领域的发展一直是全球关注的重点,光刻机作为芯片制造的基础,一直是我国难以跨越的鸿沟,尤其是在高端光刻机方面,但是好在是EUV光刻机虽然难度大,哪怕是ASML公司也是集合各家所厂研发而成,这样一来,在一定程度上完成逐一突破便也有了可能。
说到这,就必须要提到EUV光刻机的三大核心组件:双工件台系统、EUV光源系统、EUV光学镜头
不过功夫不负有心人,我国在光刻机领域终有所进展
此前,关于双工作台组件,清华大学与北京华卓精科合作,已经实现了65nm工艺光刻机需求的双工件台样机。这一突破也表示,我们成功打破了ASML公司在双工件台上的技术垄断,实现了自主研发生产。
另外一个用于EUV光刻机设备的EUV光源,同样也是清华大学率先破局!
据“央视新闻联播”报道,由国家发改委立项支持、中科院高能物理研究院承建,国内首台高能同步辐射光源科研设备于2021年6月28日上午安装。与此同时,负责为这台光源设备提供技术研发与测试支撑能力的先进光源技术研发与测试平台启动试运行
此外,中科科仪旗下的中科科美也传来佳讯,其研制的直线式劳埃透镜镀膜装置及纳米聚焦镜镀膜装置于2021年6月28日正式投入使用。央视新闻联播对此也做出报道。
正所谓好事成双,关于这两项重大突破,可能不少人还是一头雾水。笔者尽量简洁明了地概述一下。
其一,中科院的高能光源设备是全球最亮的光源之一,在实现设备安装之后,也让中国在光源技术上有了深厚的积累。对国产光刻机的意义也是十分重大的,如果用在高端光刻机上,解决光源问题,避免国外依赖,那么在国内自主光刻机产业中将取得更大的话语权。并且在此项设备建好并安装完成之后,将成为国内首台高能量辐射光源、全球亮度最高的第四代光源之一,为很多重要的科研领域提供了最基本的技术支撑。
这是中国首次研制出高能量同步辐射光源,也是全球亮度最高的第四代同步辐射光源之一。
而且为了提高光源的精度和质量,中科院还专门配套研究了一个真空镀膜设备,可以将光学镀膜的厚度降低到0.1nm以内,能达到什么程度呢?实现0.1nm(100皮米)以内的真空纳米镀膜,要知道ASML的EUV光刻机都是德国0.蔡司提供的光刻机镜头,而蔡司公司也只有20多个工程师达到该水准。
也就是说,中科院的光学镀膜水平已经达到了世界前列,再加上第四代辐射光源的支持,国内要不了多久就能全面攻克EUV光刻机。
写在最后
伴随国家对半导体行业的重视,国产厂商在半导体领域中实现了许多从无到有的突破。照此趋势下去,相信我们距离实现先进制程芯片自主化生产的目标已经不远了。祝愿国产半导体厂商能够愈发强大,早日解决半导体核心技术卡脖子的问题,在半导体领域中所向披靡。
有志者,事竟成,相信随着中国科学家,科研人员的不断研究,还会取得更多项技术的攻克。
光刻机只是生产芯片的一部分设备,虽然实现了这部分某些技术领域的突破,但要想打通全产业链的自给自足,仍需要努力前行。美国的光源技术,德国的光学系统都处于世界顶尖水准。
但不管有多大的困难,中国都不会放弃自研,国产光刻机一定能迎来最终的崛起。
这是因为全球范围内能够生产芯片的厂商非常少,芯片的产能问题会直接决定芯片的价格问题。
从某种程度上来说,当全球范围内出现一系列的芯片短缺的问题之后,很多芯片厂商会主动提高自己的产能,所以这才导致很多芯片的价格开始逐渐回落。在此之前,有些中高端芯片的价格已经被炒作到了2000元以上的价格。当芯片的供应越来越稳定以后,相关芯片的价格也回落到了200元左右的价格,芯片的价格波动幅度非常大。
多款芯片的报价出现了雪崩的行情。
因为整体市场对于芯片的需求相对比较少,在这种情况之下,各个芯片的产能在进一步恢复,这也导致很多芯片出现了产能积压的情况。在此之后,我们会发现很多芯片的价格呈现出了雪崩的态势,有些芯片的价格下跌幅度已经达到了90%。尽管如此,整个市场对于芯片的需求量依然非常少。
芯片的价格非常容易受到芯片产能以及市场需求的影响。
你可以尝试这样理解:因为市面上的芯片厂商的数量非常少,几乎所有的中高端的芯片都集中在一起加大型芯片厂商手里。当包括手机行业和新能源汽车领域对芯片的需求进一步加重的时候,芯片市场就会出现供不应求的状况。相反,但整个市场对于芯片的需求进一步减弱的时候,芯片的价格就会相应的下跌。
与此同时,芯片的价格非常容易受到产能的影响。因为很多芯片厂商在进一步提高自己的产能,这会进一步导致各种型号的芯片出现产能积压的情况,芯片产能积压的问题会进一步导致芯片的价格难以卖上去,整个市场对于芯片的需求也会相应减小。
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