金属离子是某种物质溶于水后的金属元素的离子。简单的说就是分子组成的物质中的金属元素。绝大部分金属离子是阳离子,但IVB-VIII族金属可以生成阴离子。金属离子是维持多相体系的渗透平衡的重要组成部分,也是广泛的酶反应的必要组成部分。有些酶类的催化活性,除了蛋白质部分外,还需要金属离子,即金属离子是酶活性中心的组成部分。
IC芯片(IntegratedCircuitChip)是将大量的微电子元器件(晶体管、电阻、电容等)形成的集成电路放在一块塑基上,做成一块芯片。IC芯片包含晶圆芯片和封装芯片,相应IC芯片生产线由晶圆生产线和封装生产线两部分组成。
半导体材料表面的污染物主要有二类:有机污染物和金属离子污染。一号液主要是清除有机污染物如油脂等的,二号液则主要清除金属离子污染。只有先清除材料表面覆盖的油污,才能彻底清除油污下面的离子污染物。所以应该先用一号液清洗,然后再用二号液清洗。√ 楼主您好,根据您提出的问题,下面为您做详细解答:
半导体行业中使用的清洗剂、显影剂、光刻胶、蚀刻液等溶剂中含有大量有机物成分,在工艺过程中,这些有机溶剂大部分通过挥发成为废气排放。其废气的主体是VOCs,同时废气中还混合了HCl、氨、HF等危险污染物,分离和处理难度比较大。
半导体废气治理办法
半导体酸废气处理通常采用碱液体喷淋法,又称化学洗涤法。因液体自身具有的溶解特性,可以更好地捕捉沉降,溶解去除污染物,而达到大气排放标准,故喷淋法是半导体行业酸碱废气治理普遍采用的主要处理方法。
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