半导体中用到的bpr到底是什么材料

半导体中用到的bpr到底是什么材料,第1张

什么是BPR(业务流程重组)?BPR到底是什么?按照BPR创始人美国哈佛大学博士MichaelHammer教授的定义,BPR是“追求业务流程变革的根本性和彻底性,希望取得成本、质量、服务和速度方面的显著性改善”,后来经过了不同学者的补充、完善,这种比较激进的管理理念逐渐变得内涵丰富。目前BPR的基本内涵是以流程运作为中心,摆脱传统组织分工的束缚,提倡面向客户、组织变通、员工授权及正确地运用信息技术,达到快速适应市场变化的目的,包括不同程度的业务提升、业务优化、业务改造BPR是业务流程重组BusinessProcessReengineering的缩写。它的定义有几种,其中广为人知的是它的奠基人MichaelHammer和JamesChampy的定义:“BPR是对企业的业务流程作根本性的思考和彻底重建,其目的是在成本、质量、服务和速度等方面取得显著的改善,使得企业能最大限度地适应以顾客(Customer)、竞争(Competition)、变化(Change)为特征的现代企业经营环境”。在这个定义中,“根本性”、“彻底性”、“显著性”是应关注的核心内BPR的几种经典方法对于一个企业来说,BPR是一个重大而复杂的系统工程,在项目实施过程中涉及到多方面的活动和工作。参与企业信息化的成员在整个BPR过程中,不但应当知道如何进行BPR,由谁来进行BPR,而且还需要了解一些进行BPR的方法和工具。参加BPR的成员们如果能够有效地利用现代的BPR工具,就可以更有效地对企业中的问题流程进行改造,将BPR的各个阶段的工作有机地协调起来。在BPR中可以用到的技术和方法有很多。下面介绍一些常用的手法。头脑风暴法和德尔菲法:在讨论公司战略远景规划、决定企业再造时机过程中,头脑风暴法和德尔菲法是两种有用的方法。在运用头脑风暴法进行讨论时,鼓励与会者提出尽可能大胆的设想,同时不允许对别人提出的观点进行批评。运用头脑风暴法有助于我们发现现有企业流程中的弊病,提出根本性的改造设想。一些软件工具也可以用来支持这种讨论,与会者可以同时和匿名地对讨论议题提出他们的建议和意见,根据关键字来进行存储、检索、注释、分类和评价。德尔菲法则经常用来论证企业再造方案的可行性。可以将初步的再造方案发给若干事先选定的信息系统专家,征求他们的意见。然后将各位专家的反馈意见经过整理和分析后,第2次再发给专家,让他们考虑其他专家的看法,对有分歧的地方进行更深入的思考。这样,经过几轮征集,最终可获得比较一致的意见。这对于减少BPR的风险、设置正确的信息化战略是十分有用的。价值链分析法在对企业的流程进行分析并选择被改造流程时,可以采用哈佛大学波特教授提出的价值链分析法。价值链分析法是辨别某种“价值活动”是否能给本企业带来竞争力的方法,这一理论最早发表在波特的一篇关于如何将价值链分析与信息技术结合起来的论文中,后来被发展成为企业战略分析的重要手段,对企业信息化建设也有很重要的应用价值。波特认为:在一个企业中,可以将企业的活动分为主要活动与辅助活动两种。主要活动包括采购物流、生产制造、发货物流、市场营销、售后服务等,辅助活动包括高层管理、人事劳务、技术开发、后勤供应等方面的活动。以上各项活动因企业或行业不同而具体形式各异,但所有的企业都是从这些活动的链接和价值的积累中产生了面向顾客的最终价值。因此,将一个企业的活动分解开来,并分析每一个链条上的活动的价值,就可以发现究竟哪些活动是需要改造的。例如,可以按照某项业务将有关的活动细分为几个范围(如将产品销售分解成市场管理+广告+销售人员管理+……),从中发现可以实现差别化和产生成本优势的活动。ABC成本法又称作业成本分析法主要用于对现有流程的描述和成本分析。作业成本分析法和上述价值链分析法有某种程度的类似,都是将现有的业务进行分解,找出基本活动。但作业成本分析法着重分析各个活动的成本,特别是活动中所消耗的人工、资源等。标杆瞄准法标杆瞄准法可用在设立改革的目标和远景、确定流程再造的基准等方面。在许多行业都有一些成功的企业,这些企业的做法可以为行业中的其他企业所效仿,因此,也可以将这些企业的一些具体的指标作为其他企业的标杆。丰田汽车的投资回报率(ROI)曾被作为日本汽车行业的标杆。当日产公司发现自己的投资回报率还不到丰田的一半时,他们就意识到问题的严重性。通过分析自己的业务流程,他们最后决定关闭了这间工厂。流程建模和仿真对企业现有业务流程的分析并提出改造的方案可以用计算机软件的方法来进行,这就是企业信息流程建模。目前已经有许多企业信息流程建模方法和相应的软件系统问世。ARIS(集成化信息系统架构)方法和工具是由德国萨尔大学企业管理研究所所长及IDS-Scheer公司总裁WilhelmScheer教授所提出。其设计理念是希望提出一个整合性的框架,将描述一个企业流程的重要观念尽量纳入到模型之中。IDEF0方法是ICAMDEFinitionMethod的简称,是美国空军在上个世纪70年代末80年代初在ICAM(IntegratedComputerAidedManufacturing)基础上采用SADT等方法发展起来的一套建模和分析方法。1990初期,IDEF用户协会与美国国家标准与技术学会合作,建立了IDEF0标准,并在1993年公布为美国信息处理标准。目前IDEF是多种国际组织所承认的标准。为了减少项目的复杂性,使项目得以顺利进展,项目实施小组可以运用基于计算机软件的建模分析工具,如BPWIN等来建模。使用这些方法对企业业务流程建模后,不但描述企业现行流程,进行流程诊断和设计新流程,还可以对企业业务流程进行有关成本、效益等方面的模拟和分析。在上述的这些方法中,头脑风暴、德尔菲法、价值链分析和竞争力分析都是经典的管理方法和技术,而ABC成本法、标杆瞄准法、流程建模和仿真则是比较新的方法、尤其是流程建模和仿真,为BPR项目提供了有力的工具。将上面这些的方法和技术综合在一起,就为BPR团队提供了一整套有力的工具,可以在整个业务流程再造过程中运用。参考资料:

过去几十年,全球半导体行业增长主要受台式机、笔记本电脑和无线通信产品等尖端电子设备的需求,以及基于云计算兴起的推动。这些增长将继续为高性能计算市场领域开发新应用程序。

首先,5G将让数据量呈指数级增长。我们需要越来越多的服务器来处理和存储这些数据。2020年Yole报告,这些服务器核心的高端CPU和GPU的复合年增长率有望达到29%。它们将支持大量的数据中心应用,比如超级计算和高性能计算服务。在云 游戏 和人工智能等新兴应用的推动下,GPU预计将实现更快增长。例如,2020年3月,互联网流量增长了近50%,法兰克福的商业互联网数据交换创下了数据吞吐量超过每秒9.1兆兆位的新世界纪录。

第二个主要驱动因素是移动SoC——智能手机芯片。这个细分市场增长虽然没有那么快, 但这些SoC在尺寸受限的芯片领域对更多功能的需求,将推动进一步技术创新。

除了逻辑、内存和3D互联的传统维度扩展之外,这些新兴应用程序将需要利用跨领域的创新。这需要在器件、块和SoC级别进行新模块、新材料和架构的改变,以实现在系统级别的效益。我们将这些创新归纳为半导体技术的五大发展趋势。

趋势一:摩尔定律还有用,将为半导体技术续命8到10年…

在接下来的8到10年里,CMOS晶体管的密度缩放将大致遵循摩尔定律。这将主要通过EUV模式和引入新器件架构来实现逻辑标准单元缩放。

在7nm技术节点上引入了极紫外(EUV)光刻,可在单个曝光步骤中对一些最关键的芯片结构进行了设计。在5nm技术节点之外(即关键线后端(BEOL)金属节距低于28-30nm时),多模式EUV光刻将不可避免地增加了晶圆成本。最终,我们希望高数值孔径(High-NA) EUV光刻技术能够用于行业1nm节点的最关键层上。这种技术将推动这些层中的一些多图案化回到单图案化,从而提供成本、产量和周期时间的优势。

Imec对随机缺陷的研究对EUV光刻技术的发展具有重要意义。随机打印故障是指随机的、非重复的、孤立的缺陷,如微桥、局部断线、触点丢失或合并。改善随机缺陷可使用低剂量照射,从而提高吞吐量和成本。

为了加速高NA EUV的引入,我们正在安装Attolab,它可以在高NA EUV工具面世之前测试一些关键的高NA EUV材料(如掩膜吸收层和电阻)。目前Attolab已经成功地完成了第一阶段安装,预计在未来几个月将出现高NA EUV曝光。

除了EUV光刻技术的进步之外,如果没有前沿线端(FEOL)设备架构的创新,摩尔定律就无法延续。如今,FinFET是主流晶体管架构,最先进的节点在6T标准单元中有2个鳍。然而,将鳍片长度缩小到5T标准单元会导致鳍片数量减少,标准单元中每个设备只有一个鳍片,导致设备的单位面积性能急剧下降。这里,垂直堆叠纳米薄片晶体管被认为是下一代设备,可以更有效地利用设备占用空间。另一个关键的除垢助推器是埋地动力轨(BPR)。埋在芯片的FEOL而不是BEOL,这些BPR将释放互连资源路由。

将纳米片缩放到2nm一代将受到n-to-p空间约束的限制。Imec设想将Forksheet作为下一代设备。通过用电介质墙定义n- p空间,轨道高度可以进一步缩放。与传统的HVH设计相反,另一个有助于提高路由效率的标准单元架构发展是针对金属线路的垂直-水平-垂直(VHV)设计。最终通过互补场效应晶体管(CFET)将标准cell缩小到4T,之后充分利用cell层面上的第三维度,互补场效应晶体管通过将n-场效应晶体管与p-场效应晶体管折叠。

趋势2: 在固定功率下,逻辑性能的提高会慢下来

有了上述的创新,我们期望晶体管密度能遵循摩尔所规划的路径。但是在固定电源下,节点到节点的性能改进——被称Dennard缩放比例定律,Dennard缩放比例定律(Dennard scaling)表明,随着晶体管变得越来越小,它们的功率密度保持不变,因此功率的使用与面积成比例;电压和电流的规模与长度成比例。

世界各地的研究人员都在寻找方法来弥补这种减速,并进一步提高芯片性能。上述埋地电力轨道预计将提供一个性能提高在系统水平由于改进的电力分配。此外,imec还着眼于在纳米片和叉片装置中加入应力,以及提高中线的接触电阻(MOL)。

二维材料如二硫化钨(WS2)在通道中有望提高性能,因为它们比Si或SiGe具有更强的栅长伸缩能力。其中基于2d的设备架构包括多个堆叠的薄片非常有前景,每个薄片被一个栅极堆叠包围并从侧面接触。模拟表明,这些器件在1nm节点或更大节点上比纳米片的性能更好。为了进一步改善这些器件的驱动电流,我们着重改善通道生长质量,在这些新材料中加入掺杂剂和提高接触电阻。我们试图通过将物理特性(如生长质量)与电气特性相关联来加快这些设备的学习周期。

除了FEOL, 走线拥挤和BEOL RC延迟,这些已经成为性能改善的重要瓶颈。为了提高通径电阻,我们正在研究使用Ru或Mo的混合金属化。我们预计半镶嵌(semi-damascene)金属化模块可同时改善紧密距金属层的电阻和电容。半镶嵌(semi-damascene) 可通过直接模式和使用气隙作为介电在线路之间(控制电容增加)

允许我们增加宽高比的金属线(以降低电阻)。同时,我们筛选了各种替代导体,如二元合金,它作为‘good old’ Cu的替代品,以进一步降低线路电阻。

趋势3:3D技术使更多的异构集成成为可能

在工业领域,通过利用2.5D或3D连接的异构集成来构建系统。这些有助于解决内存问题,可在受形状因素限制的系统中添加功能,或提高大型芯片系统的产量。随着逻辑PPAC(性能-区域-成本)的放缓,SoC 的智能功能分区可以提供另一个缩放旋钮。一个典型的例子是高带宽内存栈(HBM),它由堆叠的DRAM芯片组成,这些芯片通过短的interposer链路直接连接到处理器芯片,例如GPU或CPU。最典型的案例是Intel Lakefield CPU上的模对模堆叠, AMD 7nm Epyc CPU。在未来,我们希望看到更多这样的异构SOC,它是提高芯片性能的最佳桥梁。

在imec,我们通过利用我们在不同领域(如逻辑、内存、3D…)所进行的创新,在SoC级别带来了一些好处。为了将技术与系统级别性能联系起来,我们建立了一个名为S-EAT的框架(用于实现高级技术的系统基准测试)。这个框架可评估特定技术对系统级性能的影响。例如:我们能从缓存层次结构较低级别的片上内存的3D分区中获益吗?如果SRAM被磁存储器(MRAM)取代,在系统级会发生什么?

为了能够在缓存层次结构的这些更深层次上进行分区,我们需要一种高密度的晶片到晶片的堆叠技术。我们已经开发了700nm间距的晶圆-晶圆混合键合,相信在不久的将来,键合技术的进步将使500nm间距的键合成为可能。

通过3D集成技术实现异质集成。我们已经开发了一种基于sn的微突起互连方法,互连间距降低到7µm。这种高密度连接充分利用了透硅通孔技术的潜力,使>16x更高的三维互联密度在模具之间或模具与硅插接器之间成为可能。这样就大大降低了对HBM I/O接口的SoC区域需求(从6 mm2降至1 mm2),并可能将HBM内存栈的互连长度缩短至多1 mm。使用混合铜键合也可以将模具直接与硅结合。我们正在开发3µm间距的模具到晶圆的混合键合,它具有高公差和放置精度。

由于SoC变得越来越异质化,一个芯片上的不同功能(逻辑、内存、I/O接口、模拟…)不需要来自单一的CMOS技术。对不同的子系统采用不同的工艺技术来优化设计成本和产量可能更有利。这种演变也可以满足更多芯片的多样化和定制化需求。

趋势4:NAND和DRAM被推到极限非易失性存储器正在兴起

内存芯片市场预测显示,2020年内存将与2019年持平——这一变化可能部分与COVID-19减缓有关。2021年后,这个市场有望再次开始增长。新兴非易失性存储器市场预计将以>50%的复合年增长率增长,主要受嵌入式磁随机存取存储器(MRAM)和独立相变存储器(PCM)的需求推动。

NAND存储将继续递增,在未来几年内可能不会出现颠覆性架构变化。当今最先进的NAND产品具有128层存储能力。由于晶片之间的结合,可能会产生更多的层,从而使3D扩展继续下去。Imec通过开发像钌这样的低电阻字线金属,研究备用存储介质堆,提高通道电流,并确定控制压力的方法来实现这一路线图。我们还专注于用更先进的FinFET器件取代NAND外围的平面逻辑晶体管。我们正在 探索 3D FeFET与新型纤锌矿材料,作为3D NAND替代高端存储应用。作为传统3D NAND的替代品,我们正在评估新型存储器的可行性。

对于DRAM,单元缩放速度减慢,EUV光刻可能需要改进图案。三星最近宣布EUV DRAM产品将用于10nm (1a)级。除了 探索 EUV光刻用于关键DRAM结构的模式,imec还为真正的3D DRAM解决方案提供了构建模块。

在嵌入式内存领域,我通过大量的努力来理解并最终拆除所谓的内存墙,CPU从DRAM或基于SRAM的缓存中访问数据的速度有多快?如何确保多个CPU核心访问共享缓存时的缓存一致性?限制速度的瓶颈是什么? 我们正在研究各种各样的磁随机存取存储器(MRAM),包括自旋转移转矩(STT)-MRAM,自旋轨道转矩(SOT)-MRAM和电压控制磁各向异性(VCMA)-MRAM),以潜在地取代一些传统的基于SRAM的L1、L2和L3缓存(图4)。每一种MRAM存储器都有其自身的优点和挑战,并可能通过提高速度、功耗和/或内存密度来帮助我们克服内存瓶颈。为了进一步提高密度,我们还在积极研究可与磁隧道结相结合的选择器,这些是MRAM的核心。

趋势5:边缘人工智能芯片行业崛起

边缘 AI预计在未来五年内将实现100%的增长。与基于云的人工智能不同,推理功能是嵌入在位于网络边缘的物联网端点(如手机和智能扬声器)上的。物联网设备与一个相对靠近边缘服务器进行无线通信。该服务器决定将哪些数据发送到云服务器(通常是时间敏感性较低的任务所需的数据,如重新培训),以及在边缘服务器上处理哪些数据。

与基于云的AI(数据需要从端点到云服务器来回移动)相比,边缘 AI更容易解决隐私问题。它还提供了响应速度和减少云服务器工作负载的优点。想象一下,一辆需要基于人工智能做出决定的自动 汽车 。由于需要非常迅速地做出决策,系统不能等待数据传输到服务器并返回。考虑到通常由电池供电的物联网设备施加的功率限制,这些物联网设备中的推理引擎也需要非常节能。

今天,商业上可用的边缘 AI芯片,加上快速GPU或ASIC,可达到1-100 Tops/W运算效率。对于物联网的实现,将需要更高的效率。Imec的目标是证明推理效率在10.000个Tops /W。

通过研究模拟内存计算架构,我们正在开发一种不同的方法。这种方法打破了传统的冯·诺伊曼计算模式,基于从内存发送数据到CPU(或GPU)进行计算。使用模拟内存计算,节省了来回移动数据的大量能量。2019年,我们演示了基于SRAM的模拟内存计算单元(内置22nm FD-SOI技术),实现了1000Tops/W的效率。为了进一步提高到10.000Tops/W,我们正在研究非易失性存储器,如SOT-MRAM, FeFET和基于IGZO(铟镓锌氧化物)的存储器。

历史背景

企业再造理论的出现,具有深刻的时代背景。

一方面,是市场竞争的现实需要。20世纪六七十年代,美国企业面对来自其他国家企业的严峻挑战,不得不针对自身竞争能力不断下降的现实,反思自身存在的弊端。同时,西方发达国家完成工业化进程,逐步进入了信息化社会后,人们的需求层次逐渐提高,需求的内容也日益多样化,供需矛盾日益突出,企业之间的竞争不断加剧。

信息技术革命使得企业的经营环境和运作方式发生了极大的变化,而美国经济的长期低迷,又使得市场竞争日益激烈,企业面临着越来越严峻的挑战。有些管理专家用“3C”理论阐述了这种全新的挑战:

(1)顾客(Customer)——买卖双方关系中的主导权转到了顾客一方。竞争使顾客对商品有了更大的选择余地;随着生活水平的不断提高,顾客对各种产品和服务也有了更高的要求。

(2)竞争(Competition)——技术进步使竞争的方式和手段不断发展,发生了根本性的变化。越来越多的跨国公司越出国界,在逐渐走向一体化的全球市场上展开各种形式的竞争,美国企业面临日本、欧洲企业的竞争威胁。

(3)变化(Change)——市场需求日趋多变,产品寿命周期的单位已由“年”趋于“月”,技术进步使企业的生产、服务系统经常变化,这种变化已经成为持续不断的事情。因此在大量生产、大量消费的环境下发展起来的企业经营管理模式已无法适应快速变化的市场。

在全球企业经营环境迅速变化的过程中,一些早先业绩颇佳的美国企业由于墨守成规、固步自封,没有及时采取快速变革的措施以适应新的竞争形势,从而丧失了在日益全球化的经济环境中的优势地位。1980年以后,美国企业开始积极向日本的同行学习,并简单地认为将日本的成功经验移植过来就可以取得成功,但实际情况表明,这种改良式的变革,并没有给美国企业带来明显的成效。在这种情况下,许多学者认识到,必须对现有的企业管理观念、组织原则和工作方法进行彻底的重 组再造,做一次脱胎换骨的大手术,才能帮助美国企业迅速获得再生,重新夺回世界领先的位置。

另一方面,是经济理论的深化和发展。企业再造理论的出现,一个明确的指向就是亚当·斯密提出的“分工理论”。斯密认为“劳动生产力最大的增进,以及运用劳动时所表现的更大的熟练、技巧和判断力,似乎都是分工的结果。”分工带来的效率提高,可以从以下几个方面来解释:(1)分工可以推进劳动者生产知识的 专业化,促使劳动者在较短的时间内迅速提高熟练技能,从而形成生产中的高效率;(2)分工可以使劳动者长时间专注一项工作,从而节约或减少由于经常变换工 作而耽误的时间;(3)分工可以促使大量有利于节省劳动的机器和工作方法的出现.

但是,分工理论在不断提高企业生产效率的同时,也给企业的持续发展套上了一道无形的枷锁。首先,将一个连贯的业务流程转化成若干个支离破碎的片段,既导致劳动者的技能的专业化,成为一个片面发展的机器附属物,也增加了各个业务部门之间的交流工作和沟通,因此会大大增加交易费用。其次,在分工理论的影响下, 科层制成为企业组织的主要形态,这种体制将员工分为严格的上下级关系,即使进行一定程度的分权管理,也大大束缚了企业员工的积极性、主动性和创造性。特别是在老的工业经济时代逐步向新的知识经济时代过渡的过程中,流行了200多年的分工理论已经成为亟须变革的羁绊。因此,以恢复业务流程本来面目为根本内容的“企业再造理论”,便应运而生了。

正是在这样的背景下,为探索美国企业迎接来自日本、欧洲企业的挑战之道,1993年,迈克·哈默和詹姆斯·钱皮出版了《再造企业》一书,书中认为:“20多年来,没有一个管理思潮如目标管理、多样化、Z理论、零基预算、价值分析、分权、质量圈、追求卓越、结构重整、文件管理、走动管理、矩阵管理、内部创新及‘一分钟决策’等,能将美国的竞争力倒转过来。”言下之意,只有“企业再造理论”才能帮助美国企业起废振颓,再展雄风。

基本观点

《企业再造》的第一段就开宗明义,吹响了向巨人挑战的号角。这个吹响号角的人就是迈克尔·哈默,他被誉为“企业再造工程的鼻祖”,《企业再造》以福特、IBM及贝尔公司的案例及相关的成功经验,介绍企业如何进行自我改造。本书系统阐述了企业流程再造即BPR(Business Process Reengineering,也译做“企业流程重组”“流程再造”)思想,提出再造企业的首要任务是BPR,只有建设好BPR,才能使企业彻底摆脱困境。 按照该理论的创始人原美国麻省理工学院教授迈克·哈默(M·Hammer)与詹姆斯·钱皮(J·Champy)的定义,是指“为了飞越性地改善成本、质量、服务、速度等重大的现代企业的运营基准,对工作流程(business process)进行根本性重新思考并彻底改革”,也就是说,“从头改变,重新设计”。为了能够适应新的世界竞争环境,企业必须摒弃已成惯例的运营模式和工作方法,以工作流程为中心,重新设计企业的经营、管理及运营方式。BPR理论随即成为席卷欧美等国家的管理革命浪潮,并被誉为18世纪英国经济学家斯密专业分工理论之后具有划时代意义的企业管理理论。

企业实践

企业再造理论在美国和欧洲的企业中受到了高度的重视,因而得到迅速推广,带来了显著的经济效益,涌现出大批成功的范例。1994年的早期,由CSC Index公司(战略管理咨询公司)对北美和欧洲6000家大公司中的621家进行了抽样问卷调查。调查的结果是:北美497家公司的69%、欧洲124家公司的75%已经进行了一个或多个再造项目,余下的公司一半也在考虑进行这样的项目。American Express(美国运通公司)通过再造,每年减少费用超过10亿美元。德州仪器公司的半导体部门,通过再造,使集成电路订货处理程序的周期减少了一半还多,改变了顾客的满意度,由最坏变为最好,并使企业获得了前所未有的收入。


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