电压暂降对半导体行业会产生什么样影响？

现代供电网络日趋庞大，彼此间的电磁耦合紧密，系统故障点引起的电压扰动往往会波及更大范围的用电负载。电力系统经常因为短路等不可预防的故障引发电压暂降问题。而在半导体行业中，芯片制造工艺复杂，芯片中电路的制作需层层叠代、环环相扣，芯片从最初的硅圆片上线加工到最后芯片封装销售，整个过程将近上百道工序，任何一道工序的加工失误均会导致整个晶圆片的报废。

在半导体行业中的敏感负载有：厂务排风系统（洁净室）、PCW工艺水、UPW超纯水系统；光刻机；离子注入机；刻蚀机；机台控制系统等。这些系统或负载遇到电压暂降之后，会受到不同程度的影响；严重时会导致整条生产线所生产的芯片报废，给企业带来巨大的经济损失。

电压暂降的危害不仅仅是生产流程中断造成的直接经济损失，还会出现成品率降低、延迟交货、和设备寿命的降低；晃电事故严重的话，时还会影响企业在客户心中的信誉度，从而导致的客户流失等。

1、搅拌速度：PH值反映的是H+的活度，(H+)而不是H+的浓度[H+]，其关系为(H+)=f×[H+]。F为H+的活度系数。它是由溶液中所有离子的总浓度决定而不只决定于被测离子的浓度。在理论纯水中活度系数f等于1，但只要有其它离子存在，活度系数就要改变，PH值也就会改变。即PH值受溶液中总的离子浓度的影响，总离子浓度变化，PH值就要改变。由于复合电极液接界很靠近PH敏感玻璃球泡，从液接界渗漏出的盐桥溶液首先聚集在敏感球泡周围，改变了其附近的总离子浓度，由上述原因可知，使用测量值只是敏感球泡附近的被改变了PH值，不能反映其真实的PH值。虽然采用搅拌或摇动烧杯的方法可以改变这种情况，但实践证明，搅拌速度不同，测试的值也会不一样，同时搅拌或摇动又会加速CO2的溶解，所以也不可取。 2、高浓度3mol/L的Kcl：由于纯水中离子浓度非常低，而参比电极盐桥溶液选中高浓度3mol/L的Kcl，相互之间的浓度差较大，与它在普通溶液中的情况差别很大。在纯水会加大盐桥溶液的渗透速度，促使盐桥的损耗，从而加速了K+和CL-的浓度的降低。引起液接界电位的变化和不稳定，而Ag/AgCl参比电极本身的电位取决于CL-的浓度。CL-浓度发生了变化，其参比电极自身电位也会随之变化，于是就使得示值漂移，特别是不能补充内参比液的复合电极更会如此。 3、Kcl浓度的降低：为了保证复合电极的pH零电位，盐桥必须采用高浓度的Kcl，同时为了防止Ag/AgCl镀层被高浓度的Kcl溶解，在盐桥中又必须添加粉末状的AgCl，使盐桥溶液被AgCl饱和。但是根据上述第1条所述，由于盐桥溶液中Kcl浓度的降低，又使原本溶解在其中的AgCl过饱和而沉淀，从而堵塞液接界。 4、易受污染：纯水很容易受到污染，在烧杯中敞开测量，很容易受到CO2吸收的影响，PH值会不停地往下降，有关国际标准规定测量必须在一个特殊的装置中密闭中进行，但在一般实验室中难于实行。

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