金相切片,又名切片,cross-section, x-section, 是用特制液态树脂将样品包裹固封,然后进行研磨抛光的一种制样方法,检测流程包括取样、固封、研磨、抛光、最后提供形貌照片、开裂分层大小判断、或尺寸等数据。
主要用途:是一种观察样品截面组织结构情况的最常用的制样手段。
1: 切片后的样品常用立体显微镜或者金相测量显微镜观察 :固态镀层或者焊点、连接部位的结合情况,是否有开裂或微小缝隙(1um以上的);截断面不同成份的组织结构的截面形貌,金属间化合物的形貌与尺寸测量;电子元器件的长宽高等结构参数可用横截面的办法用测量显微镜测量;失效分析的时候磨掉阻碍观察的结构,可以露出需要观察的部分,例如异物嵌入的部位等,进行观察或者失效定位。
2:切片后的样品可以用于金相显微镜/SEM/EDS扫描电镜与能谱观察形貌与分析成份。
3:作完无损检测如x-ray,SAM的样品所发现的疑似异常开裂、异物嵌入等情况,可以用切片的方法来观察验证。
4:切片后的样品可以与FIB联用,做更细微的显微切口观察。
试验周期:
1、制样固化需一天时间,研磨抛光拍照半天时间,写报告几小时时间,共需2天;
2、采用快速固化需2小时,研磨抛光半天时间加上写报告时间,共需一天。
受限制因素:
1:样品如果大于5厘米x5厘米x2厘米,就需要用切割等办法取样后再进行固封与研磨。
2:最小观察长度1微米,再小的就需要用到FIB来继续做显微切口。
3:常规固化比快速固化对结果有利,因为发热较小,速度慢,样品固封在内的受压缩彭胀力较小,固封料与样品的粘结强度高,在研磨的时候极少发生样品与固封树脂结合面开裂的情况。
4:是破坏性的分析手段,要小心 *** 作,一旦样品被固封或切除、研磨,样品就不可能恢复原貌。
金相切片试验步骤:
取样---镶嵌---切片---抛磨---腐蚀---观察。
深圳市三昊仪器设备有限公司--昊林
半导体在我们的生活中有着至关重要的地位,我们现在所享受到智能科技带来的生活和便捷都离不开半导体,下面一起了解一下什么是半导体吧。半导体,顾名思义就是导电性介于导体和绝缘体之间的一类物体。通过杂质的掺入而改变材料的导电性能,这便是半导体技术的底层基础。由此延展,这一特性可以用来制作出各类具备不同IV特性(电流电压特性)的晶体管。将成万上亿只晶体管集成在一起,并实现一定的电路功能,便形成了集成电路。粗略地讲,集成电路经过设计、制造、封装、测试后便形成了一颗完整的芯片,它通常是一个可以立即使用的独立整体。
说到半导体,其实它的发现可以追溯到很久以前,早在1833年,英国科学家电子学之父法拉第最先发现硫化银的电阻随着温度的变化情况不同于一般金属,一般情况下,金属的电阻随温度升高而增加,但法拉第发现硫化银材料的电阻是随着温度的上升而降低。这是半导体现象的首次发现。后来人们又陆续发现了半导体的其他三种特性:光电伏特效应、光电导效应、整流效应。
常见的半导体材料有硅、锗、砷化镓等,而硅更是各种半导体材料中,在商业应用上最具有影响力的一种。物质存在的形式多种多样,固体、液体、气体、等离子体等。我们通常把导电性差的材料,如煤、人工晶体、琥珀、陶瓷等称为绝缘体。而把导电性比较好的金属如金、银、铜、铁、锡、铝等称为导体。可以简单的把介于导体和绝缘体之间的材料称为半导体。
半导体的生产制造流程十分复杂,我们都知道半导体的主要成分是硅,而沙子正好就是硅组成的,由沙子到半导体这俩的跨越难度可想而知。简单来讲,半导体的生产制造流程主要分为硅片制造、晶圆制造、IC封测。
其中硅片制造:硅片制造的原料是硅锭,硅锭在要经历许多工艺步骤才能制成合乎要求的硅片,包括研磨、刻印定位槽、切片、磨片、倒角、刻蚀、抛光、清洗、检测和包装;晶圆制造:晶圆指制造半导体晶体管或集成电路的衬底。晶圆制造过程主要包括扩散、光刻、刻蚀、离子注入、薄膜生长、化学机械抛光、金属化七个相互独立的工艺流程;晶圆封测:导体封装测试是指将通过测试的晶圆按照产品型号及功能需求加工得到独立芯片的过程。晶圆封测过程主要包括晶圆电测、切割、贴片、引线键合、封装、老化测试。
半导体是科技发展中必不可少的东西,在当下大部分的电子产品,如计算机、移动电话或是数字录音机当中的核心单元都和半导体有着极为密切的关连。
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