半导体二氧化钛还原电位取决于什么

半导体二氧化钛还原电位取决于导代与价带的氧化还原电位。半导体的光催化活性主要取决于导带与价带的氧化还原电位。而半导体二氧化钛因化学性质稳定、氧化还原性强、抗腐蚀等特点是目前最广泛使用的半导体光催化剂，那么半导体二氧化钛花园电位就是光催化活性的过程，是取决于导带与价带的氧化还原电位。所以半导体二氧化钛还原电位取决于导带与价带的氧化还原电位。

电腐蚀是发生在发电机槽部定子线棒防晕层表面和定子槽壁之间因失去电接触而产生的容性放电，从而引起线棒表面的腐蚀和损伤·

容性放电：这种容性放电的放电能量比纯电晕放电要大得多,严重时发展为火花放电.火花放电温度可高达摄氏几百度至上千度.同样,放电使空气电离产生的臭氧与空气中的氮,水分产生化学作用,对线棒表面和铁芯产生腐蚀.电腐蚀轻者,使线棒防晕层及主绝缘表面变白并有不同程度的蚕食严重者防晕层损坏,主绝缘外露或出现麻点,引起线棒表面防晕层乃至主绝缘,垫条的烧损.这种引起线棒防晕层,主绝缘,垫条等损伤的情况统称为"电腐蚀".

内腐蚀：根据电腐蚀产生的部位分外腐蚀和内腐蚀.外腐蚀指发生在防晕层和定子槽壁之间的电腐蚀内腐蚀是指发生在防晕层和主绝缘之间的电腐蚀.内腐蚀的原因是由于线棒的表面防晕层与线棒主绝缘之间粘接接触不好,存在微小空气气隙的缘故,如主绝缘表面不平整,半导体漆没有浸透或半导体漆本身的问题等.随着发电机制造技术的发展,"内腐蚀"基本上已成为了一个历史名词

防护措施：防止电腐蚀的措施有:①定子槽内在下线前喷低阻半导体漆.②选择合适的低阻半导体垫条,打紧槽楔,保证线棒直线部分表面防晕层的完好,使线棒表面防晕层与垫条或铁芯壁有良好的接触.③改进线棒槽内固定方式.④改进制造工艺水平,如线棒的尺寸和平直度,铁芯的制造和叠片公差等.良好的线棒制造工艺和整机制造水平是减少电腐蚀发生的有力保证. 目前我国在线棒防晕和防止电腐蚀方面有了长足的进步,如主绝缘和防晕层同时热压成型,半导体适型毡工艺,线棒采用半导体槽衬槽内固定等.

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