半导体wet设备有哪些

半导体wet设备有哪些,第1张

硅片晶圆清洗机、蚀刻机、单片清洗机、电镀设备。半导体是指常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料,半导体wet设备有硅片晶圆清洗机、蚀刻机、单片清洗机、电镀设备。半导体在收音机、电视机以及测温上有着广泛的应用。

主要是对硅晶片(Si

wafer)的一系列处理

1、清洗

->

2、在晶片上铺一层所需要的半导体

->

3、加上掩膜

->

4、把不要的部分腐蚀

->

5、清洗

重复2到5就可以得到所需要的芯片了

Cleaning

->

Deposition

->

Mask

Deposition

->

Etching

->

Cleaning

1、中的清洗过程中会用到硝酸,氢氟酸等酸,用于清洗有机物和无机物的污染

其中Deposition过程可能会用到多种器材,比如HELIOS等~

Mask

Deposition过程中需要很多器材,包括Spinner,Hot

plate,EVG等等~

根据材料不同或者需要的工艺精度不同,Etching也分很多器材,可以使用专门的液体做Wet

etch,或者用离子做Plasma

Etching等

最后一部的Cleaning一般是用Develpoer洗掉之前覆盖的掩模~

多数器材都是Oxford

Instruments出的

具体建议你去多看看相关的英文书,这里说不清楚。。

这个怎么像是我们公司用的设备啊。

HF FUMER是一台机器,海运的时候是没有HF在里面的。

FUME就是雾气的一起,HF FUME还真不好翻译,原来就是用N2带出HF,也就是用带有HF的气体对产品进行腐蚀处理的方式。

HF FUMER就是这样的一台机器。

WET STATION,就是湿法腐蚀的机器,用液态的腐蚀液进行工艺的。


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原文地址: http://outofmemory.cn/dianzi/9076713.html

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