半导体酸碱废气处理方法
半导体行业酸碱废气处理通常采用液体喷淋法,又称化学洗涤法。因液体自身具有的溶解特性,可以更好地捕捉沉降,溶解去除污染物,而达到大气排放标准,故喷淋法是半导体行业酸碱废气治理普遍采用的主要处理方法。
半导体有机废气处理方法
半导体行业有机废气处理方法,通常先用沸石转轮对VOCs进行吸附浓缩之后,再用直接燃烧法进行销毁,废气净化率达到97%以上。
直接燃烧又称为直接火焰燃烧,它是把VOCs可燃组分直接烧掉,因此该方法适用于净化可燃有害组分浓度较高的废气,或者净化有害组分燃烧时热值较高的废气;多种可燃气体或多种溶剂蒸气混合在废气中,只要浓度值适宜,也可以直接燃烧。如果可燃组分的浓度高于燃烧上限,可以混入空气后燃烧;如果可燃组分的浓度低于燃烧下限,则可以加入一定数量的辅助燃料如天然气等,维持燃烧。
单晶硅有机硅独特的结构,高纯的单晶硅是重要的半导体材料,具备了无机材料与有机材料的性能,市场上晶闸管、场效应管、二极管、三极管、芯片、CPU以及各种集成电路都是用硅做为原材料的,在对半导体设备的加工过程中会产生大量含有硅废水,本文讲解一下关于半导体工艺产生的废水有哪些?废水处理的流程是什么?
半导体含硅废水处理工艺流程:
1、一级沉淀池,用于沉淀回收部分二氧化硅
2、一级混凝池,用于投加混凝剂去除废水中的胶体硅和溶解硅,与所述一级沉淀池连接
3、二级混凝池,用于投加助凝剂和成核剂,利用成核剂反应析出的沉淀物(泥渣)作为接触介质加快沉淀物的长大,提高混凝效果,与所述一级混凝池连接
4、二级沉淀池,用于固液分离,沉淀混凝后的絮体,与所述二级混凝池连接
在对含硅废水进行初步沉淀时是可以回收部分的二氧化硅,在初步沉淀后的废水投加混凝剂进行一级混凝,去除废水中的胶体硅和溶剂硅,完成一级混凝后的废水投加助凝剂和成核剂,这时将会析出的沉淀物,析出的沉淀物在下落的过程中可以于其他的悬浮物混合,加快了沉淀的速度,提高混凝效果。
该半导体含硅废水处理方法结合了多种混凝除硅方法,药剂得到充分利用时形成协同效应,处理 *** 作简单而且能达到较好的除硅效果。
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