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4。氮化物半导体的导电控制4.1。蓝色发现的p -型导电交界的n氮化镓GaN和实现的P -发光二极管没有成功,许多团体试图制造p型氮化镓但。随着氮化镓晶体质量控制成功的,我们就可以开始工作,在p型掺杂。使用的LT - AlN缓冲层,密度氮化镓残余捐助也大幅下降如上所述。但在上尽管一再努力锌掺杂,它不可能产生p型氮化镓。 1987年,我们发现,发光强度锌有关的大量增加时,高品质的锌掺杂的GaN层与成长的LT - AlN缓冲了电子束照射在阴极发光(CL)的测量[21]。我们认为这种现象(称为电子束的影响)[21]可能是密切相关的传导与活化锌,因此与受体PTYPE的。但晶体并没有显示p型传导。与此同时,在1988年,我们注意到,可能是受体镁锌浅比,因为它的电是]大22比锌[。 1989年,我们成功地在镁掺杂高品质氮化镓使用镁掺杂Cp2Mg或MCP2Mg作为一个同时保持AlN缓冲层技术的高品质结晶使用的LT - [23]。然后镁掺杂GaN样品进行照射用电子束在掺杂样品一样的锌。我们发现效果大大提高电子束蓝色发光这些Mgdoped氮化镓样品(部门)以及低电阻率的样品是p型氮化镓[24]。随即,我们实现了世界上第一个氮化镓的p - n结蓝/紫外发光二极管令人鼓舞的I - V特性于1989年[24],如图所示研究。 5。我们实现了p型氮化铝镓在1991年[25]和p型GaInN在1995年[26]以相同的方式。 1992年,PTYPE的氮化镓也产生Mgdoped氮化镓铝热退火成长与缓冲层,中村等的LT - GaN的。 [27]。后来,p型氮化镓紫外得到[28]或电磁波辐射[29,30] 400集成电路在高温下。为了实现p型氮化物,就必须激活[31镁受体释放氢气,32]。但是,我们首先要大幅度降低钝化受体的剩余供氢之前解决相关的问题。

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