什么是半导体离子注入技术？

半导体离子注入技术是一种材料表面改性高新技术，在半导体材料掺杂，金属、陶瓷、高分子聚合物等的表面改性上获得了极为广泛的应用，在当代制造大规模集成电路中，可以说是一种必不可少的手段。

基本原理：

用能量为100keV量级的离子束入射到材料中去，离子束与材料中的原子或分子将发生一系列物理的和化学的相互作用，入射离子逐渐损失能量，最后停留在材料中，并引起材料表面成分、结构和性能发生变化，从而优化材料表面性能，或获得某些新的优异性能。

离子注入的优点是能精确控制杂质的总剂量、深度分布和面均匀性，而且是低温工艺（可防止原来杂质的再扩散等），同时可实现自对准技术（以减小电容效应）。

作为一种材料表面工程技术，离子注入技术具有以下一些其它常规表面处理技术难以达到的独特优点：

纯净的无公害的表面处理技术

无需在高温环境下进行，无需热激活，不会改变工件的外形尺寸和表面光洁度

与基体之间不存在剥落问题

离子注入后无需再进行机械加工和热处理

荣欣源为客户提供大束流、中束流、高能离子源用钨钼精密部件。

1. 是万业企业，国内A股半导体产业链替代领域唯一一家拥有离子注入机的上市公司是万业企业，股票代码600641。上海万业企业股份有限公司成立于1991年10月，是一家具有新兴产业基因的高科技上市公司。公司借助平台优势，依托国内外市场，利用国内外资源，通过“延伸并购+产业整合”，扎实推进公司向集成电路产业领域的快速转型。

2. 万业企业全资子公司凯世通作为房地产开发销售上市公司，是国内半导体领域IC离子注入机的优质标的，是国内半导体IC替代领域唯一的上市公司。离子注入机。2017年，公司以自有资金10亿元认购上海半导体装备与材料产业投资基金，迈出转型第一步。2018年，公司成功收购上海开士通半导体有限公司。中国离子注入机研发与制造企业。在光伏离子注入领域拥有全球第一的市场份额，并正在积极开发集成电路离子注入机。收购完成后，公司正式进入集成电路核心装备产业之一的离子注入机领域。2019年荣获浦东新区政府颁发的“2018年度浦东新区经济突出贡献企业”称号、“年度资本创新”和“年度价值企业”金奖两项大奖、“上市公司”奖公司在发展最快的高端制造业”。

拓展资料

1. 离子注入机是应用最多的高压小型加速之一。 用于半导体材料、大规模集成电路和器件的离子注入，以及金属材料的表面改性和成膜。2021年，CETC离子注入机亮相第十三届中国国际航天博览会。

2. 离子注入机由离子源、离子导入和质量分析器、加速管、扫描系统和工艺腔组成，二次部分可根据实际需要省略。 离子源是离子注入机的主要部分。 其功能是将待注入元素的气态粒子电离成离子，并确定待注入离子的类型和束流强度。 离子源直流放电或高频放电产生的电子作为轰击粒子。 当外部电子的能量高于原子的电离势时，元素通过碰撞电离。 碰撞后，除了原始电子外，还会出现正电子和二次电子。 正离子进入质量分析器选择需要的离子，然后通过加速获得高能量。 经四级透镜聚焦后，进入靶室进行离子注入

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