中国半导体产业所面临的形势十分严峻,在核心设备光刻机方面被荷兰阿斯麦垄断,在光刻胶等芯片材料方面则被一众日企垄断。
光刻胶是芯片制造过程中必须用到的基础性材料,其重要性不亚于光刻机。但在全球光刻胶领域,日本以及美国等国家的企业长期掌控着核心技术以及半数以上的市场。
公开数据表明, 日本ISP、东京应化、信越化学以及住友化学这四家巨头垄断了全球70%以上的市场。
尽管近年来中国企业实现了低端光刻胶的进口替代,但在中高端光刻胶上仍然高度依赖进口,尤其是高端光刻胶。
不过,日本企业对光刻胶的垄断,却意外盘活国产高端光刻胶,日前已经有中国企业拿下了第一个高端产品订单。
集微网6月30日消息,国产光刻胶龙头企业上海新阳发布公告,公司自主研发的KrF厚膜光刻胶产品已经通过客户认证,并取得第一笔订单。
要知道,KrF厚膜光刻胶产品的开发和产业化,是上海新阳的第三大核心技术。如今第一笔订单到手,意味着上海新阳已经进入了KrF厚膜光刻胶产品的产业化阶段。
同时,这也意味着,国产KrF厚膜光刻胶将实现更高的国产化率。
值得一提的是,不仅仅是上海新阳, 晶瑞股份的KrF厚膜光刻胶也已经完成中试,并进入客户测试阶段,测试通过后即可进入量产环节。
由此可见,中国企业在高端光刻胶制造方面已经掌握了一定的技术实力。那么,国产光刻胶到底能不能雄起呢?笔者认为可以。
首先,全球半导体材料市场正在逐步向中国大陆转移。
近年来,国内半导体材料销售额占全球市场的比例已经提升至16.2%,随着市场规模的扩张,中国光刻胶企业的机会也会越来越多。
同时,在我国对新冠疫情有效防控、供应链稳定运行的情况下,国内配套产业的建设进度也会进一步加快。
在市场需求旺盛的前提下,国产替代的空间很大。
其次,国家政府的鼎力支持,是中国光刻胶企业坚实的后盾。
为了加快实现国产替代和高端技术突破,我国相关部门制定了一系列的政策,为相关企业提供资金、人才等多方面的支持。
在政策利好的情况下,中国光刻胶企业也积极投入研发,为实现国产光刻胶打破海外垄断而努力。
三立时代电子是一家日本上市公司,总部位于东京都台东区,公司成立于1962年,是一家专业从事半导体制造及其相关产品的研发、生产及销售的高科技企业。公司的主要产品包括:微处理器、存储器、显示器、模拟器等,为客户提供专业的半导体产品和解决方案。三立时代电子的产品应用广泛,主要服务于通信、消费电子、工业控制、自动化、计算机等领域。公司致力于提高产品质量,不断开发新产品,满足客户的需求。三立时代电子积极开展国际市场开发,公司产品已经出口到欧洲、美洲、亚洲等国家和地区。欢迎分享,转载请注明来源:内存溢出
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