最先进的集成电路是微处理器或多核处理器的核心。
根据电路特点,集成电路分为模拟集成电路、数字集成电路和混合信号集成电路。
半导体集成电路工艺,包括以下步骤:光刻,刻蚀,薄膜(化学气相沉积或物理气相沉积),掺杂(热扩散或离子注入),化学机械平坦化CMP。
二、芯片制造如同盖房子,以晶圆作为地基,层层往上叠。没有设计图,拥有再强制造能力都没有用,因此芯片设计师很重要。
在IC生产流程中,IC多由专业IC设计公司进行规划、设计,比如联发科、高通、Intel等。IC设计中,最重要的步骤就是规格制定。类比盖房子,先要决定要几间房子,有什么建筑法规要遵守,在确定好所有功能后再进行设计,这样才能免去后续多次修改的麻烦。
规格制定的第一步便是确定IC的目的、效能为何,对大方向做设定。接着是察看有哪些协定需要遵守,比如无线网卡的芯片就需要符合IEEE 802.11规范,不然,就无法与市面上其他设备连线。最后确定IC的制作方法,将不同欧冠功能分配成不同单元,并确立不同单元间连接的方法,如此便完成规格的制定。
接着便是设计芯片的细节,就先初步记下建筑的规画,将整体轮廓描绘出来,方便后续制图。在IC 芯片中,使用硬体描述语言(HDL)将电路描写出来,常使用的HDL有Verilog、VHDL等,使用程式码可轻易的将IC功能表达出来。
有了完整规画后,接下来便是画出平面设计蓝图。在IC设计中,逻辑合成便是将确定无误的HDL code,放入电子设计自动化工具(EDA tool),让电脑将HDL code转换成逻辑电路,并反复修改至无误。
最后,将合成的程式码再放入另一套EDA tool,进行电路布局和绕线。
参考文章:芯片到底是什么?https://blog.csdn.net/fuli911/article/details/116740481?ops_request_misc=%257B%2522request%255Fid%2522%253A%2522162415509316780274192768%2522%252C%2522scm%2522%253A%252220140713.130102334..%2522%257D&request_id=162415509316780274192768&biz_id=0&utm_medium=distribute.pc_search_result.none-task-blog-2~all~top_click~default-2-116740481.first_rank_v2_pc_rank_v29&utm_term=%E8%8A%AF%E7%89%87&spm=1018.2226.3001.4187
IC的制备工艺相对复杂一点,但跟基本的晶体管、MOS工艺等差不多的。NPN管为例硅外延平面管的结构主要工艺流程:(1) 切,磨,抛衬底(2)外延(3)一次氧化(4)基区光刻(5)硼扩散/硼注入,退火(6)发射区光刻(7)磷扩散(磷再扩)(8)低氧(9)刻引线孔 (10)蒸铝(11)铝反刻(12)合金化 (13)CVD(14)压点光刻(15)烘焙(16)机减(17)抛光(18)蒸金(19)金合金(20)中测.欢迎分享,转载请注明来源:内存溢出
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