铜的处理方式。这是什么处理。

在印刷电路板工艺中，有一种工艺叫做活化处理。在印刷电路板工艺中，胶体铜活化处理的特点是什么？

①胶体铜颗粒表面带正电荷，在孔壁表面吸附良好，无需全孔处理。同时，胶态铜颗粒的直径很小，胶态铜颗粒在孔壁各死角上的覆盖力很好，减少了空洞现象。

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②酸性胶体钯活化时，活化液和预浸料溶液均呈强酸性，氯离子含量高。多层板容易产生“粉红圈”现象，胶态铜的预浸和活化呈碱性或中性，无氯离子，减少了“粉红圈”的形成。

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③由于钯的还原电位比氢的还原电位更负，当板浸入化学镀铜溶液中时，钯核附近会产生大量的氢。同时，钯核催化化学镀铜的初始反应速度更快，生成的氢更多，因此钯催化化学镀铜层的结构松散而脆弱。当胶体铜被激活时，由于铜的还原电位比氢的还原电位更为正，当板浸入化学镀铜溶液中时，铜晶核处没有氢，催化反应较慢，生成氢气较少。化学镀铜层结晶良好，机械性能良好。

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④钯是一种非常昂贵的金属。钯的价格最近更是翻了一倍。胶体铜由于其丰富的铜资源和低廉的价格，使其成本远低于胶体钯，有利于降低印刷电路板的加工成本。

胶体铜活化液目前市场上只有一家公司销售，国内用户较少。中国没有相应的制药水供应商。然而，随着钯价格的上涨和降低生产成本的需求越来越迫切，人们相信胶体铜的活化过程将越来越被广大用户所接受。我国相应的制药水供应商应根据市场需求，加大对制药水产品的研发力度以满足这类产品的市场需求。

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活化后，以钯为核的胶团吸附在基体表面，碱性锡化合物包围钯核。在进行化学镀铜前，应去除部分钯芯，以充分暴露和提高胶体钯的活性。这种处理称为加速处理。加速处理液可用酸性处理液或碱性处理液（如5%氢氧化钠溶液或1%氟硼酸溶液）处理1～2分钟，然后冲洗，进行化学镀铜。如果加速处理液浓度过高，时间过长，吸附钯会脱落，化学镀铜后在孔壁上形成孔。

以上这些活化处理的简介特点，您都了解了吗。如需补充请在留言板下方留言联系！

化学镀使用范围面广，适用于金属，金属半导体及各种非金属(陶瓷，树脂，金刚石)等；化学镀铜层均匀，不收尺寸大小，形状的影响，并且可以得到均匀的镀层；化学镀铜层结合力优良且具有很好的化学、力学和磁性性能(如致密而高硬度等)；化学镀一些方面要优于电镀，并且有些问题只能用化学镀解决。广州贻顺化工致力于化学镀方面，有非常要好的技术支持，主导“环保贻顺，绿色家园”的宗旨。电镀是利用电解池原理在机械制品上沉积出附着良好的、但性能和基体材料不同的金属覆层的技术。电镀层比热浸层均匀，一般都较薄，从几个微米到几十微米不等。需要一些电解装置， *** 作繁琐，成本高

常用的镍银或镍金层一般1~3微米。镍层较厚， 要起阻挡层作用。

另外镀的方法上有电镀和EN镀，镀层表面质量不一样。

分立半导体器件的电镀一般采用纯锡或锡基和金电镀，这几年由于欧洲RoHS指令生效，纯锡电镀较为流行。纯锡电镀有Wisker的问题，所以镀层厚度的最小值一般要求超过8微米，并配合150C回火。

不同的封装工艺，对镀层的要求不尽一样，业界没有固定的标准。只要能做到满足可靠性就可以了，200-600微英寸。

拓展资料：

电镀就是利用电解原理在某些金属表面上镀上一薄层其它金属或合金的过程，是利用电解作用使金属或其它材料制件的表面附着一层金属膜的工艺从而起到防止金属氧化（如锈蚀），提高耐磨性、导电性、反光性、抗腐蚀性（硫酸铜等）及增进美观等作用。不少硬币的外层亦为电镀。

电镀时，镀层金属或其他不溶性材料做阳极，待镀的工件做阴极，镀层金属的阳离子在待镀工件表面被还原形成镀层。为排除其它阳离子的干扰，且使镀层均匀、牢固，需用含镀层金属阳离子的溶液做电镀液，以保持镀层金属阳离子的浓度不变。电镀的目的是在基材上镀上金属镀层，改变基材表面性质或尺寸。电镀能增强金属的抗腐蚀性(镀层金属多采用耐腐蚀的金属)、增加硬度、防止磨耗、提高导电性、光滑性、耐热性和表面美观。

镀层大多是单一金属或合金，如钛钯、锌、镉、金或黄铜、青铜等；也有弥散层，如镍-碳化硅、镍-氟化石墨等；还有覆合层，如钢上的铜-镍-铬层、钢上的银-铟层等。电镀的基体材料除铁基的铸铁、钢和不锈钢外，还有非铁金属，或ABS塑料、聚丙烯、聚砜和酚醛塑料，但塑料电镀前，必须经过特殊的活化和敏化处理。

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