电子从金属中逸出,需要能量.增加电子能量有多种方法,如用光照、利用光电效应使电子逸出,或用加热的方法使金属中的电子热运动加剧,也能使电子逸出.本实验用加热金属,使热电子发射的方法来测量金属的逸出功.
几种金属逸出功(10^-19J):
钙 3.2
镁 5.9
铍 6.2
钛 6.6
钨 4.54
钠 2.29
钾 2.25
铷 2.13
铯 1.9
半导体的逸出功大小顺序是电子从逸出功小的材料移向逸出功大的材料。根据查询相关公开信息显示,半导体的逸出功比金属的小,故当金属与半导体接触时,电子就从半导体流入金属,在半导体表面层内形成一个由带正电不可移动的杂质,电子从逸出功小的材料移向逸出功大的材料,即从金属移向半导体。把一个电子从固体内部刚刚移到此物体表面所需的最少的能量。功函数的大小通常大概是金属自由原子电离能的二分之一。同样地将真空中静止电子的能量与半导体费米能级的能量之差定义为半导体的功函数。功函数的单位:电子伏特,eV功函数(work function)又称功函、逸出功,在固体物理中被定义成:把一个电子从固体内部刚刚移到此物体表面所需的最少的能量。 真空能级:电子达到该能级时完全自由而不受核的作用。 功函数:真空能级与费米能级之差。欢迎分享,转载请注明来源:内存溢出
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