基于ARM的扩散／氧化控制系统的设计

　　随着信息化、智能化、网络化的发展，嵌入式系统得到了前所未有的发展。由于嵌入式系统具有体积小、性能强、可靠性高等特点，目前广泛应用于工业控制、控制仪表、通信等各个领域。扩散/氧化控制系统是为扩散氧化炉设计的控制系统。扩散/氧化炉是集成电路制造的重要的工艺设备之一。本系统主要由高精度的温度控制系统、推拉舟控制系统、气路控制系统组成。本系统为扩散/氧化炉提供高精度的扩散氧化环境，以生产出高质量的半导体产品。

　　本文采用的是ARM处理器S3C2440，它具有工作频率高、片上资源丰富等特点，可以良好地应用于本系统。且系统设计中移植了嵌入式WinCE，使得控制系统具有实时性强、编程方便、可扩展性强等特点。

　　1 扩散/氧化控制系统的总体设计

　　如图1所示，系统的CPU及扩展模块是以S3C2440为核心的开发板。在系统中有温度控制子系统、推拉舟控制子系统、气路控制子系统。上述3 个子系统为闭环系统，分别完成对温度、步进电机、气体质量流量计的检测和控制。触摸显示屏作为人机界面，用于控制和监视系统的运行。

　　

　　图1 系统结构框图

　　2 控制系统的硬件设计

　　2.1 ARM微处理器S3C2440

　　2.2 温度控制子系统硬件设计

　　温度控制子系统要求4路温度采集，其中一路测量环境温度，另外3路测量扩散/氧化炉的温度。系统要求温度测量范围为0～1 700℃，全量程分辨率为0.1℃。

　　为满足系统要求，测量扩散/氧化炉的传感器可以选用热电偶。为满足系统测量精度的要求，同时系统A/D转换的速度要求不是很快，所以采用双积分型A/D转换器ILC7135。ILC7135精度高、抗干扰性能好、价格低，应用十分广泛。ICL7135其转换数字范围为-19 999～+19 999，即分辨率为1/40 000。为了增加测量精度，需要对热电偶输入的信号进行滤波。因为本系统主要受工频信号的干扰，所以滤波过程主要滤掉工频信号。信号放大时根据系统的要求可以选用OP07、OP27等高精度的放大器。图2为ILC7135的A/D转换原理图。因为S3C2440的引脚高电平为3.3 V，所以此电路与CPU连接时可以使用电平转换芯片SN74ALVCl64245或74LVC4254等。

　　在本系统中使用晶闸管控制的电阻丝给扩散/氧化炉加温，为了防止市电对系统的影响，必须使用光电隔离器隔离本系统与市电的连接。

　　

　　图2 ILC7135 A/D转换原理图

　　2.3 气路系统和推拉舟系统的硬件设计

　　在扩散/氧化工艺中，根据工艺的不同需要通入4种不同种类和质量的气体。所以在气路控制系统中，需要4路开关量控制4种不同气体的通断，以及4 路模拟量控制气体质量流量计。质量流量计能够输出4 mA～20 mA或0～5 V的气体质量信号，在控制精度要求不高的系统中，可以不理会质量流量计输出的气体质量信号，为了保证控制精度，可以采集气体质量信号。

　　在4路开关量控制中，可以使用继电器控制通断。

　　在4路模拟量控制气体质量流量计中，需要4路D/A转换。根据控制精度的要求，选用12位的D/A芯片DAC1230，因为控制信号为电压信号，所以需要把电流信号转换成电压信号。图3即为气路控制系统D/A转换原理图。

　　

　　图3 气路控制系统D/A转换原理图

　　在4路气体质量流量测量中，因为气体质量流量计可以输出4 mA～20 mA或0～5 V两种信号，所以要求A/D转换芯片转换这两种信号。根据控制精度的要求，可以选用12位A/D转换芯片AD574。

　　在扩散/氧化工艺中，推拉舟用于运送半导体芯片，由步进电机驱动。微处理器S3C2440有4路PWM输出，可以输出脉冲给步进电机的驱动器，控制步进电机的运动。同时需要通用I/O口控制步进电机的正反转。

　　为了精确地获得推拉舟的当前位置，使用位置编码器记录推拉舟的运动距离。为了获得位置编码器的脉冲，使用8254记录脉冲数。CPU扫描读取8254的数据，计算出推拉舟的当前位置。