光刻机技术哪国最好

荷兰光刻机为什么厉害（芯片光刻机哪个国家最好）

荷兰巨头ASML

光刻机：“人类最精密复杂的机器”

在芯片制造过程中，有这样一个步骤:用紫外线去除晶圆表面的保护膜。用来完成这个步骤的机器叫做光刻机。

芯片制造中，光刻机是核心设备。目前光刻机领域有超高端、高端、中端、低端四个档次，对应的节点有5/7nm工艺、7-28nm工艺、28-65nm工艺、65-90nm工艺。

现在几乎所有的电子设备都离不开芯片。由于芯片技术已经进入7nm时代，需要顶级的EUV光刻机设备来制造7nm、5nm等先进工艺的芯片。目前，这种顶级的EUV光刻机只能由掩模光刻机巨头ASML (ASML)制造。

没有光刻机，即使能设计出最先进的芯片，制造、封装等后续 *** 作也无法进行。这也是为什么华为海思研发的基于5nm工艺的麒麟9000芯片在国际上知名度很高，但是没有高端EUV光刻机的支持，就算拿了世界第一也没用。

光刻机巨头：荷兰ASML的崛起之路

为什么顶级的光刻机来自荷兰，而不是美国？

60-70年代，光刻机发展初期，美国领先于世界。当时的光刻机原理很简单，就是把光通过一个有电路图的掩模投射到涂有感光胶的晶片上，当时的晶片只有1寸大小。

80年代前后，由于美国的支持，部分组装产业转移到日本，日本抓住了在半导体领域崛起的机会。90年代，日本半导体产业成为世界第一，出口量超过美国。

1984年，ASML，一家生产光刻机的荷兰公司成立。当时，ASML是飞利浦和ASM国际(一家小公司)的合资公司，双方比例为50:50。起初，只有31名员工。在成立之初，ASML没有钱和客户，甚至不得不在简单的木屋里工作。

1997年，英特尔和美国能源部牵头成立了EUV LLC前沿技术组织，整合了通信巨头摩托罗拉、IBM、芯片巨头AMD，以及能源部下属的三个国家实验室:劳伦斯利弗莫尔国家实验室、桑迪亚国家实验室和劳伦斯柏克莱实验室。

这些实验室是美国科技发展背后的功臣。之前的研究成果涵盖了物理、化学、制造、半导体行业的各种前沿技术。

此时，美国政府将EUV技术视为推动国内半导体产业发展的核心技术，不希望外国企业参与其中。然而此时美国的光刻机企业已经“束手无策”了。

最后，ASML同意在美国设立工厂和RD中心，以满足美国国内所有产能的需求，并确保55%的零部件从美国供应商处采购，并接受定期审查，然后纳入美国EUV有限责任公司联盟。

这就是为什么“ASML一半是欧洲人一半是美国人”

在ASML被允许加入EUV有限责任公司后，它飞向了天空，而尼康和佳能被排除在外，从而失去了他们未来的门票。

制造先进的光刻机比制造原子d更难吗？十多年来，ASML一直占据着世界第一的位置，ASML总统也曾表示，即使他们公开了EUV光刻机制造的图纸，也没有一家公司能成功制造出来。

EUV光刻机是一种比原子d更难制造的机器，每台成本超过1.2亿美元。虽然价格高，但还是供不应求，甚至有些国家即使价格再高也买不到。

一台顶级EUV光刻机重达180吨，包含约10万个零件，在全球有超过5000家供应商，需要40个集装箱进行运输。即使你从ASML购买了EUV光刻机，没有他们的帮助，你也无法正常安装和使用，整个光刻机设备的安装和调试需要一年时间。

ASML虽然是荷兰公司，但背后有欧盟和美国的实力，很多关键技术都是美国和欧盟国家提供的。一台顶级EUV光刻机的部件中，美国光源占27%，荷兰腔和英国real 空占32%，日本材料占27%，德国光学系统占14%。它是世界顶尖技术的结晶。

目前国内的光刻机领域还处于发展的初级阶段，上海微电子已经能够实现90nm光刻机的量产。但是90nm之后，还有65nm，45nm，32nm，22nm，14nm，10nm，7nm，5nm。这些节点技术都是一个一个跨栏，有些跨栏可能几年后一代人都更新不了。长征只是第一步。

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