近几十年来,中国在各个领域的科技可以说是从落后到飞速发展。不仅如此,在很多领域,中国的很多科技后来居上,成为世界领先的技术,比如盾构机、高铁技术、UHV技术、5G技术等等。
在军工领域,上世纪六七十年代,我国科学家研制了“两d一星”,其中“两d一星”是指氢d、原子d、导d和卫星。如果要对现在世界各国的科技水平进行排名,美国因为先发优势明显,排名世界第一,而中国大概率仅次于美国,已经位居世界第一。那么问题来了。既然中国攻克了很多难题,为什么在芯片技术上还会落后?
芯片制造被认为是现代工业技术的顶峰。属于精密制造,精度超出常人想象。
现在尖端的芯片制造技术已经在纳米级别运作了。所谓“纳米”是十分之一米,大约是一个原子的十倍大小。我们经常在新闻中听到“5nm芯片”,“7nm芯片”指的是芯片中的“栅极厚度”。你可以简单粗暴地把“门”理解为控制一个物理门的开关。
说白了,芯片制造技术是最尖端的工业制造技术之一。在目前的国产芯片中,由华为设计、TSMC制造的麒麟9000芯片是最高端的手机芯片。它是一个5毫米的芯片,在一个小芯片里有153亿个晶体管。
但精密制造只是制造芯片的难点之一,制造芯片更难的是“积累”。芯片技术本质上更像是搭积木,也就是说当我们想要搭起来的时候,需要依靠下面的“积累”。用空在空建造城堡是不可能的。这种“积累”体现在制造芯片的每一步。
如果要制造一个芯片,从头到尾需要上百道工序,甚至可能上千道工序。在这些过程中,你需要用到几十门学科的前沿知识,你需要大量的制造设备,包括精密光学仪器、精密化学仪器、精密机床等等。芯片制造大致可以分为三个主要步骤,即设计芯片、制造芯片和封装测试。
首先是设计芯片。在这个领域,华为自主设计的麒麟芯片已经相当强大,华为旗下的海思凭借麒麟芯片跻身全球十大芯片公司。但是,要设计一个芯片,就需要使用专门为芯片设计的软件,也就是俗称的EDA软件。
华为也需要这个软件来设计麒麟芯片。我们国家在这方面落后。两家美国公司和一家德国公司在这个领域领先,但是这家德国公司的总部在美国。说白了,在这个领域,美国几乎垄断了。只要想设计芯片,就会涉及美国专利,很难绕过。
至于制造,涉及的技术更多。首先要做晶圆,晶圆主要用二氧化硅。提纯简单的硅听起来很简单,其实不然。因为,制作芯片所需的硅的纯度很高,至少要达到99.9999999%,如果低于这个纯度,芯片的良率就会下降。而我们国家现在生产不出这么高纯度的晶圆,日本公司是这方面的技术领先。
晶圆只是制作芯片的原材料,到了制造的时候就需要光刻机了。目前,这一领域的世界顶尖是荷兰的ASML (ASML)。
光刻机集成了大量各个领域的前沿技术,需要各个领域的顶尖企业为ASML提供支持,而这些企业大多是欧美企业。因为美国企业起步最早,这里大量的技术专利属于美国企业。
但是不要以为光有光刻机就够了。芯片制造的过程需要调试机器,同时也需要足够的专业和经验。TSMC在这方面领先于世界。他们生产的芯片良品率高,已经可以量产5mm的芯片了。此外,TSMC制造的芯片越多,他们拥有的信息和经验就越多,他们设置的技术壁垒就越高。
芯片制造的最后一步是:封装和测试。在这个领域,我们国家的技术并不落后,相反,做得很好。但是密封测试是整个过程中最简单的一个,所以不能表现出太大的优势。
除了以上步骤,还有很多其他技术。比如制造过程中需要光刻胶,日本公司在这方面做的最好。
因为制造一个芯片需要这些技术的加持,这些技术大部分掌握在美国手里,一部分掌握在其他欧美国家和日本手里。所以,当美国宣布禁止华为等公司使用相关技术专利时,中国芯片就会面临卡住的困境。美国和其他国家的这些技术专利是从20世纪50年代积累到现在几十年的。
如果想一口气在弯道超车是不现实的。这个挑战堪比之前的“两d一星”,难度更大。
虽然很难,但是中国绕过美国的各种专利,自主研发高性能芯片,这一点很重要。所以,无论有多难,无论挑战有多大,无论代价有多大,我们都要迎难而上,完成“中国芯”的设计、制造和测试。
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