一、应用背景:
磁控溅射是一种磁控运行模式的二次溅射。此种技术广泛应用于镀膜设备上,它不仅适用于广泛的镀膜靶材(如:铜、钛、铬、不绣钢、镍等金属材料),而且镀膜时还可大幅度提高膜层的附着力、重复性、致密度和均匀度。
磁控溅射镀膜设备主要是使用直流磁控溅射,常需要2路输出稳定的直流电源,设定一个电压值后,要求快速响应到电压的设定值。电源使用过程中必须保持稳定性,电压数值不能受负载影响。然而,市面上常用的开关电源为开环控制,无法确保稳定输出,而一个稳定的电压对镀膜好坏至关重要,因此设想通过PLC的PID算法,利用现有的直流开关电源,实现电源的快速调节和闭环管理。
如下图所示,在智能电源控制系统上需要4AI来检测两路直流稳压电源的电流信号和电压信号,作为智能电源的反馈信号;需要使用2AO来控制电压输出,使电源具有良好的负载特性,保持恒压输出。
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