利用GaAs PHEMT设计MMIC LNA

利用GaAs PHEMT设计MMIC LNA,第1张

 

  在通信接收器中低噪声放大器(LNA)对于从噪声中析出信号十分关键。控制系统内噪声还有其他技术,包括过滤和低温冷却,但低噪声放大器的良好性能,提供了一种被实践所验证的可靠的管理通信系统噪声的方法。随之而来的是对工作于X频段(8GHz)的低功率(电池供电)LNA设计的探索。设计比较了在目标是工作于的几毫瓦DC电源的单片微波集成电路(MMIC)中,GaAs PHEMT增强型(E模式)和耗尽型(D模式)晶体管的使用。

  低功率工作目标与处理不必要的(blocking)信号的应用相互矛盾。这类应用要求严格过滤和/或具有良好线性的LNA,其线性特性以三阶截止点(IP3)表示。还有,许多如全球定位系统(GPS)接收器等无线应用,可利用低功率LNA增强在没有干扰或blocking信号时的弱信号。

  考虑用于LNA设计的GaAs PHEMT有两种不同的器件形式:具有典型负栅阈值电压的D模式晶体管和具有正栅阈值电压的E模式晶体管。正栅阈值电压简化了电池供电系统中的偏压。尽管有可能采用一节电池对D模式器件供电,但它需要消耗额外的流入源电阻的DC功率以满足偏压要求。

  在LNA设计中,第一步是确定哪种类型器件提供最好的功能与性能的组合。下一步是选择器件的大小尺寸。器件尺寸将影响LNA的带宽、DC功耗、噪声值和非线性性能。对于一阶效应,器件尺寸不会影响增益和噪声值。然而,随着器件变得更小,匹配电路和相互联接的电阻损耗相对于器件阻抗而增加,大大增加了噪声值。

  器件尺寸的选择在MMIC LNA设计中是关键的一步。漏偏电流对噪声值的影响甚至比漏偏电压的影响更大。此外,漏偏还影响放大器增益。没有足够大的电流,增益会很低。一般来说,LNA对于漏饱和电流(IDSS)偏置15%~20%,作为增益与噪声的折衷。IDSS与器件尺寸成比例,所以较大器件将比较小器件消耗更大功率。降低DC功耗的一个途径是在维持15%~20%的IDSS偏置的同时减小器件的尺寸。

  

利用GaAs PHEMT设计MMIC LNA,第2张

 

  降低漏电压将降低DC功耗,但器件的漏电压必须足够高以使其工作于饱和区并能够放大。除了随器件尺寸缩小噪声值增大和增益减小外,使用过小的器件还有其他缺点。包括非线性效应和由于IP3表现不佳造成的对工作带宽内干扰信号的易感性。最适合匹配50欧姆系统的器件尺寸也有一定范围。尺寸比这一优选范围小或大都趋于减少带宽,也许在窄带应用中还不太考虑,但在中等带宽应用中的确很重要。所以,尽可能缩小器件尺寸以降低功耗的直觉倾向,由于其他性能问题而有所缓和。这样,设计的功耗目标确定为毫瓦级。

  一旦选定了器件尺寸、偏置电流和偏置电压,下一步是设计LNA的匹配电路。对于一般器件通常提供有非线性和线性器件模型或S参数,但它们都针特定器件尺寸,如300μm进行了优化。器件尺寸增大和缩小,误差都会随之增大,虽然我们还不清楚由于器件尺寸增大和缩小而增大的误差有多大。反复设计流程被用于开发LNA以及电路布局,并且一直要进行各种检查。最后,在将设计发出制造之前,还要进行布局设计规则检查(DRC)。

  图1和图2分别显示了近乎相同的D模式和E模式LNA的布局。因为除掺杂物不同外,两种器件的GaAs制造工艺相同,只是要求匹配电路有一点点不同,以在E模式设计上优化D模式设计。虽然两种设计均针对一个偏置点进行了优化,还是要在各种电压和电流范围进行测试,以确定性能能力和DC功耗限制。

  

利用GaAs PHEMT设计MMIC LNA,第3张

 

  虽然两种LNA在布局上几乎一样,仿真显示在同样的DC功耗下,E模式PHEMT有更好的性能。基于计算机仿真,E模式设计比D模式PHEMT设计在1-dB压缩(P1dB)有更好的增益、噪声值和输出功率。表1对比了不同DC偏置点上的两种LNA性能。

  

利用GaAs PHEMT设计MMIC LNA,第4张

 

  

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