当Ic在增大的时候,线性方法的增益开始慢慢减小。
这张图表很能迷惑人,当我们以为Ic/Ib小于hfe的时候,管子并不是直接进入饱和区的。也就是说,并不是电流的方法倍数小于hfe就能保证管子进入饱和状态,在线性输出的时候也是管子最脆弱的时候(压降很大,输出能力有限,电平不对)
以300mA为例,此时的电流放大增益还在100以上,随着Ib的增大,电流放大倍数的减小,三极管慢慢进入饱和状态,在深度饱和状态的电流方法倍数实际上很小。这里需要区分:
饱和:当三极管的基极电流增加而集电极电流不随着增加时进入饱和状态。
深度饱和:当Ib足够大,使得Vce在很小的范围内的时候为深度饱和。
对照上图300mA的时候,Ib接近15mA才能使得管子进入深度饱和,也就是说放大倍数=20,在常温的情况下。此图是在ONSEMI的上面发掘的,说实话,虽然都是IC提供商,对待数据和图表上,严谨程度还是有区别的。
通过阅读同样一款BC807的NXP的Datasheet,里面有大量的温度曲线(这些实验数据就代表大笔的实验费用)
温度的提升使得hfe变大,换个意思也可以这样表述,要在低温下进入饱和状态,hfe比常温下还要恶劣一些:
饱和压降与好几个因素有关
1.温度:温度越高,压降越小
2.集电极电流:电流越大,压降越大
3.进入深度饱和之前,Ib越大,压降越小
最后比较通用的法则:在通用的二极管下,功率二极管需要另行确认。
设计饱和增益在25以下。
设计饱和电压在0~0.4V。
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