CPU——中央处理器,世界上单位体积集成度最大的集成电路核心,也是唯一无法山寨的物品。CPU的制造过程代表了当今世界科技发展的最高水平。
处理器的制造过程可以大致分为选取原料沙子(石英)、提纯成硅锭、晶圆、光刻、蚀刻、离子注入、金属沉积、金属层、互连、晶圆测试与切割、核心封装、等级测试、包装上市等基本步骤。
硅熔炼成硅锭:通过多步净化得到可用于半导体制造质量的硅,学名电子级硅(EGS),平均每一百万个硅原子中最多只有一个杂质原子。
单晶硅锭呈圆柱形,重约100千克,硅纯度达99.9999%。然后将硅锭横向切割成圆形的单个硅片——晶圆(Wafer)。切割出的晶圆经过抛光后变得几乎完美无瑕。
对晶圆进行光刻胶(Photo Resist),在晶圆旋转过程中浇上蓝色的的光刻胶液体,晶圆旋转可以让光刻胶铺的非常薄、平。
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