旋涂法是什么意思

旋涂是旋转涂抹法的简称，是有机发光二极管中常用的制备方法，主要有设备为匀胶机。旋涂法包括：配料，高速旋转，挥发成膜三个步骤，通过控制匀胶的时间，转速，滴液量以及所用溶液的浓度、粘度来控制成膜的厚度。电子工业中，基片垂直于自身表面的轴旋转，同时把液态涂覆材料涂覆在基片上的工艺。

旋涂（或称旋转涂覆）是依靠工件旋转时产生的离心力及重力作用，将落在工件上的涂料液滴全面流布于工件表面的涂覆过程。

旋涂只适用于在平面状简单工件上制备单侧涂层，主要用于制备电子束管荧光屏涂层等。旋涂的主要优点是易于获得密度较大的涂层，涂层厚度比较均匀。

像石头一样。硅片是制作晶体管和集成电路的原料，一般是单晶硅的切片，是制作集成电路的重要材料，通过对硅片进行光刻、离子注入等手段，可以制成各种半导体器件，在进行旋涂后的硅片，由于是一片一片，看起来像石头一样。

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