「每日一基」半导体板块深度分析，及其后市策略

目前半导体板块还是底部震荡，后市需要注意两个因素，一个是大盘走势情况另一个是半导体个股三季度的业绩情况。

由于最近指数的原因，半导体也出现了再次的回落，不过好在没有出现新低，整体的走势还是处于一个底部震荡过程中，那么半导体后市有没有行情呢？ *** 作的时候，我们需要注意什么呢？

在上次一个跳空下跌的阴线之后出现了一个中阳线上涨，然后行情，震荡回升。冲高之后呢，再次出现了一个回落的情况，目前整体就是一个震荡的行情，在指数没有出现比较好的上涨情况下，半导体想单独走强的难度是比较大的。所以，第一步还是要注意指数的情况，不过好在目前指数似乎也没有什么大的下跌空间了，而且节后以看多为主，这一点对于半导体的走势是一个向好。

在具体分析一下个股的情况。

这个半导体的持股情况，我们分析前几个。

我说这个股是个垃圾，没有人反对吧。从高点回落到现在有40多个点了，破了年线还不说，目前还继续新低，并没有出现止跌的迹象。这个股票作为半导体第一大持仓股的话，未免也太有点太拖后腿了。目前来看，诺安半导体这个基金持有的圣邦是比他强很多的。这个股票目前还没有止跌，需要继续等待。对于半导体的基金的影响是下跌的。

这个要稍微好点，因为出现了一个象征性的大阳线出现止跌。后市指数不继续新低，他的抵抗力应该会比较顽强的。这个股目前整体是二次筑底的行情，如果能走出来，那么就是双底，然后震荡上涨行情的行情了。整体对于半导体的基金影响有限，不过目前也需要放量上涨才行，不然也难以有大的行情。

这个股也是底部震荡，目前行情也是在等指数的配合，不过他没有出现大阳线，整体还有点弱，不过只要不新低，行情都还是有机会的。影响偏小，所以整体还是需要时间的。

简单的分析几个来看，目前半导体整体还处于底部震荡行情。虽然有止跌的迹象，但是个股分化还是比较严重的，一波大的行情还需要时间。目前半导体下跌的也不少了，继续大幅下跌的空间比较有限了。不过，想上去一个需要大盘的配合，另一个需要业绩的配合，这就要看这个月半导体个股的业绩情况了。如果能出现超预期的情况，那么半导体很有可能会出现一波不错的行情，去年的半导体大行情也是在一波大幅的回调之后出现了一波大行情的。

所以，目前半导体虽然止跌，但是还是底部震荡，投资的话，需要注意的是 *** 作机会和方式。以定投为主，是比较稳健的投资方式。

半导体是指一种导电性可受控制，范围可从绝缘体至导体之间的材料。无论从科技或是经济发展的角度来看，半导体的重要性都是非常巨大的。很多人一直有疑问，半导体材料有哪些? 半导体材料有哪些实际运用?今天小编精心搜集整理了相关资料，来专门解答大家关于半导体材料的疑问，下面一起来看一下吧!

一、半导体材料有哪些?

常用的半导体材料分为元素半导体和化合物半导体。元素半导体是由单一元素制成的半导体材料。主要有硅、锗、硒等，以硅、锗应用最广。化合物半导体分为二元系、三元系、多元系和有机化合物半导体。二元系化合物半导体有Ⅲ-Ⅴ族(如砷化镓、磷化镓、磷化铟等)、Ⅱ-Ⅵ族(如硫化镉、硒化镉、碲化锌、硫化锌等)、Ⅳ-Ⅵ族(如硫化铅、硒化铅等)、Ⅳ-Ⅳ族(如碳化硅)化合物。三元系和多元系化合物半导体主要为三元和多元固溶体，如镓铝砷固溶体、镓锗砷磷固溶体等。有机化合物半导体有萘、蒽、聚丙烯腈等，还处于研究阶段。

此外，还有非晶态和液态半导体材料，这类半导体与晶态半导体的最大区别是不具有严格周期性排列的晶体结构。制备不同的半导体器件对半导体材料有不同的形态要求，包括单晶的切片、磨片、抛光片、薄膜等。半导体材料的不同形态要求对应不同的加工工艺。常用的半导体材料制备工艺有提纯、单晶的制备和薄膜外延生长。

　　二、半导体材料主要种类

半导体材料可按化学组成来分，再将结构与性能比较特殊的非晶态与液态半导体单独列为一类。按照这样分类方法可将半导体材料分为元素半导体、无机化合物半导体、有机化合物半导体和非晶态与液态半导体。

1、元素半导体：在元素周期表的ⅢA族至ⅦA族分布着11种具有半导性半导体材料的元素，下表的黑框中即这11种元素半导体,其中C表示金刚石。C、P、Se具有绝缘体与半导体两种形态B、Si、Ge、Te具有半导性Sn、As、Sb具有半导体与金属两种形态。

2、无机化合物半导体：分二元系、三元系、四元系等。 二元系包括：①Ⅳ-Ⅳ族:SiC和Ge-Si合金都具有闪锌矿的结构。

　　3、有机化合物半导体：已知的有机半导体有几十种，熟知的有萘、蒽、聚丙烯腈、酞菁和一些芳香族化合物等，它们作为半导体尚未得到应用。

　　4、非晶态与液态半导体：这类半导体与晶态半导体的最大区别是不具有严格周期性排列的晶体结构。

　　三、半导体材料实际运用

制备不同的半导体器件对半导体材料有不同的形态要求，包括单晶的切片、磨片、抛光片、薄膜等。半导体材料的不同形态要求对应不同的加工工艺。常用的半导体材料制备工艺有提纯、单晶的制备和薄膜外延生长。

半导体材料所有的半导体材料都需要对原料进行提纯，要求的纯度在6个“9”以上，最高达11个“9”以上。提纯的方法分两大类，一类是不改变材料的化学组成进行提纯，称为物理提纯另一类是把元素先变成化合物进行提纯，再将提纯后的化合物还原成元素，称为化学提纯。物理提纯的方法有真空蒸发、区域精制、拉晶提纯等，使用最多的是区域精制。化学提纯的主要方法有电解、络合、萃取、精馏等，使用最多的是精馏。由于每一种方法都有一定的局限性，因此常使用几种提纯方法相结合的工艺流程以获得合格的材料。

绝大多数半导体器件是在单晶片或以单晶片为衬底的外延片上作出的。成批量的半导体单晶都是用熔体生长法制成的。直拉法应用最广，80%的硅单晶、大部分锗单晶和锑化铟单晶是用此法生产的，其中硅单晶的最大直径已达300毫米。在熔体中通入磁场的直拉法称为磁控拉晶法，用此法已生产出高均匀性硅单晶。在坩埚熔体表面加入液体覆盖剂称液封直拉法，用此法拉制砷化镓、磷化镓、磷化铟等分解压较大的单晶。悬浮区熔法的熔体不与容器接触，用此法生长高纯硅单晶。水平区熔法用以生产锗单晶。水平定向结晶法主要用于制备砷化镓单晶，而垂直定向结晶法用于制备碲化镉、砷化镓。用各种方法生产的体单晶再经过晶体定向、滚磨、作参考面、切片、磨片、倒角、抛光、腐蚀、清洗、检测、封装等全部或部分工序以提供相应的晶片。

以上就是小编今天给大家分享的半导体材料的有关信息，主要分析了半导体材料的种类和应用等问题，希望大家看后会有帮助!想要了解更多相关信息的话，大家就请继续关注土巴兔学装修吧!

---