nikon曝光机工作原理

曝光机是20世纪60年初扫描电子显微镜基础发展而来的一种新光刻技术 ，在70年代后广泛应用于半导体电路板生产制造。曝光机即电子串曝光机，是集电子光学、机械、真空、电气、计算机技术等于一体的复杂的半导体加工设备。

曝光机基本工作原理：

在计算机的控制下，利用聚焦电子束对有机聚合物(通常称为电子抗蚀剂或光刻胶)进行曝光，受电子束辐照后的光刻胶，其物理化学性质发生变化，在一定的溶剂中形成良溶或非良溶区域，从而在抗蚀剂上形成精细图形。根据电路板的线路的粗细来决定上下光源的曝光能量，能量不足电路板无法曝光，要是能量过高电路板就会过曝，所以在曝光电路板时，必须先测试电路板所需的能量，从而进行电路板的曝光生产。

科视LED曝光机的优点：

1、均匀度 90% 以上

2、线路板解析度可达到50μm。

3、节能 80% ，四年内无需更换灯管，无冷却水消耗

4、紧密的光学组合，使光源投射的平行半角小于2°

5、曝光面积为：1000mm×750mm/1300mm×750mm/1500mm×750mm

6、真空盖板自动升起，避免员工繁重的体力劳动

7、LED逐点校正系统实时，实时监控每个发光单元的强度状态

8、超高能量，能有效取代8KW/10KW12KW传统汞灯阻焊曝光机，曝光时间为 20秒

是氪（Kr）气体和氟的简写。

KrF光刻机是指使用波长248nm，由氪Kr气体和氟F气体产生的激光的半导体光刻机，尼康和佳能在光刻机领域也有着深厚的IP布局。

光刻机又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干，涂底，旋涂光刻胶，软等工序。

中芯国际使用的光刻机主要有ASML和Nikon两个品牌。ASML是荷兰的一家公司，是全球最大的半导体光刻机制造商之一，其光刻机具有高精度、高速度、高可靠性等特点，可用于生产各种芯片。Nikon是日本的一家公司，也是全球知名的半导体光刻机制造商之一，其光刻机具有高分辨率、高稳定性、高可靠性等特点，可用于生产各种芯片。中芯国际在生产过程中会根据需要选择不同型号的光刻机，以满足不同芯片的生产需求。

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