目前最先进的光刻机

目前最先进的光刻机荷兰生产的。

光刻机，被称为现代光学工业之花，制造难度非常大，全世界只有少数几家公司能够制造。用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上最大的短板，国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口。在能够制造机器的这几家公司中，尤其以荷兰技术最为先进，价格也最为高昂。

光刻机的技术门槛极高，堪称人类智慧集大成的产物。光刻机是生产大规模集成电路的核心设备，是制造和维护光学和电子工业的基础。光刻机技术目前是世界上最尖端的技术之一，只有少量国家掌握，所以光刻机的价格是非常昂贵的。

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光刻机是一个高精尖的技术，其技术难度是全球公认的，如果没有持续强大的研发投入根本不可能到技术领先。ASML从成立至今，对于研发的投入都非常大。研发费用占营收的比例达到22.8%，这个比例是非常高的。正因为有大量资金的投入，所以ASML在关键技术领域一直处于领先地位。

从1991年PAS5000光刻机面市，取得巨大成功开始。再到2000-2001年具有双工作台、浸没式光刻技术的Twinscan XT、Twinscan NXT系列研制成功，到强大的研发投入让ASML的技术一直处于全球领先。虽然ASML是一家荷兰公司，但他背后却有着欧盟以及美国的力量，很多关键技术都由美国以及欧盟国家提供。

在台积电、三星、格芯等多家半导体企业的努力下，美国芯片禁令的相关限制被逐步打破，老美对华为的禁令也被解除。可让人没想到的是，老美似乎还没有真正放松对半导体设备供应商 ASML的限制。据路透社报道，在今年5月底，美国商务部就宣布已经开始对 ASML停止出口 EUV光刻机所需的材料和技术进行审查。

国产光刻机最新进展2022(中国芯片制造最新消息)(图1)

随后 ASML发布了一则公告称：为了应对美国相关限制法规的变化，公司已经开发出了一种新型 EUV光刻机，正在为实现5nm工艺制造而努力工作。 美国此举无异于让老美芯片禁令再次踩了红线。

一、ASML的现状

ASML的技术在全球范围内处于领先地位，其光刻机更是可以实现7 nm、5 nm工艺制程。据相关媒体报道， ASML目前已经向中国客户交付了超过100台 EUV光刻机，总价值超过了25亿美元。而且在今年下半年，它还将向中国客户交付超过60台 EUV光刻机，预计总价值会达到28亿美元。

国产光刻机最新进展2022(中国芯片制造最新消息)(图2)

目前看来， ASML想要在5 nm制程上取得突破是不可能的事情了，想要实现7 nm制程突破也是不可能的事情。 不过根据消息称： ASML已经开发出了一种新型 EUV光刻机来应对美国对华为的芯片禁令的变化。而且根据其公司发布的公告显示：这种新型 EUV光刻机可能会在2022年推出，也就是说今年下半年 ASML就将完成它最终的制造环节！

国产光刻机最新进展2022(中国芯片制造最新消息)(图3)

根据资料显示： EUV光刻机的原理是在紫外线的照射下，使光敏材料中的感光分子发生化学反应，从而形成一种具有特定波长特征的光波。而在这个过程中所使用的光敏材料就是由荷兰的阿斯麦公司生产。而阿斯麦公司就是全球光刻机领域技术领先者，其能够生产出世界上最先进的光刻机。可以说，我们目前使用到这种ASML出品的 EUV刻线光刻设备就是为了能够超越 ASML，超越全世界所有国家和地区对于我们技术水准提高后所能做出的贡献。

国产光刻机最新进展2022(中国芯片制造最新消息)(图4)

而且根据资料显示：荷兰阿斯麦公司也已经在中国建立了一个生产工厂，将能够生产出 EUV光刻机用于未来5 nm制程上制造手机或者电脑等电子产品。而这对于我们来说是非常重要的一件事情。

二、为什么要放弃台积电

ASML的 CEO也曾表示过，台积电在先进制程上处于领先地位。所以 ASML才会在芯片领域对它展开合作，而台积电也不会让它失望。 但现在看来， ASML已经放弃了在先进制程上与台积电展开合作，因为这对于双方来说都是一件很痛苦的事情。

国产光刻机最新进展2022(中国芯片制造最新消息)(图5)

美国对华为的芯片禁令也会影响到 ASML以后对台积电的合作，所以它就只能选择放弃了。但也有网友表示ASML已经开发出了一种 EUV光刻机，如果 ASML能够成功地将这种 EUV光刻机制造出来的话，那么未来 EUV光刻机的市场也可以被 ASML所占领。如果 ASML能实现这种新型 EUV光刻机的话，那么这将会对世界芯片产业带来很大的影响。

三、美国的芯片禁令还会继续实施下去

对于老美的芯片禁令，中国是坚决反对而不会妥协的，但也不可能放弃。首先，我们必须承认：美国这一禁令对我国是有很大的危害的。在芯片方面，我国是有很强的实力突破 EUV光刻机，可这对于我国来说是不可能实现的。 就算能够实现，那成本也将达到天文数字。

国产光刻机最新进展2022(中国芯片制造最新消息)(图6)

而 EUV光刻机目前只有 ASML才能生产和提供。而且根据业内人士透露： ASML在光刻机方面有着几十年积累了大量先进技术与经验，即便是 EUV光刻机在其手中都有可能出现重大事故。所以说要想突破 EUV光刻机，至少需要十几年的时间才能实现并投入市场使用。但我国不可能坐以待毙，既然已经有了芯片制造方面的突破，那么我们就一定要打破美国所施加的芯片禁令。其次就是我国也一直在为实现芯片自给自足而努力奋斗着！

国产光刻机最新进展2022(中国芯片制造最新消息)(图7)

此前有消息称：我国正在研发自己的光刻机等半导体设备来打破老美对华为的半导体禁运限制。这件事我们已经听闻了很久，如今已经进入到实施阶段。就连中芯国际、华虹半导体等企业都在为实现量产而努力奋斗着！我们有理由相信：只要我国坚定地走下去，终有一天可以实现芯片国产化！可谁也没想到美国却一直在不断践踏我国的努力！

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