半导体原材料清洗用纯水设备应用特点有哪些?

半导体原材料清洗用纯水设备应用特点有哪些?,第1张

1、工业纯水设备实行全自动、手动冲洗,EDI 装置无需化学再生,并节能回收

2、RO膜在机内可进行化学药物清洗

3、源水,纯水,超纯水箱液位实行全自动控制,高水位自动停机及自动清洗功能,低水位自动开机及前处理反冲洗功能。

4、多级高压泵缺水保护,高低压保护,二级RO浓水自动回用,并自动调节PH值。

5、失压、欠压、过流、过载、短路、断路、漏电保护。

 超纯水的应用领域涵盖了整个电子行业,还有许多新能源行业也有涉猎,比如我们常说的芯片、半导体、光伏等等。今天我们主要来说一下半导体领域中超纯水的应用。在半导体生产中,超纯水都会被应用在哪里?答案是在晶圆冲洗、化学品稀释、化学机械研磨、洁净室环境中都会应用到。那么,质量会有哪些要求?虽然每个行业都使用所谓的“超纯水”,但质量标准却各不相同。半导体所用的超纯水需要达到的水质标准为:我国电子工业部电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准)、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。

请问你想问的是不是“半导体可以制水吗”?可以。

在半导体行业的生产中,超纯水设备的性能优势:

1、出现故障能够立即自动停止,有一定的自动保护功能。

2、膜组件为聚酰胺复合膜元件,表现出更高的脱盐率。

3、设备整体的能耗低,水利用率高,所以运行成本低。

这是超纯水,可以喝,但是对人体不好,因为没有任何微量元素,会反而会出问题,不建议喝。


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