半导体工艺废气如何处理？

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半导体行业中使用的清洗剂、显影剂、光刻胶、蚀刻液等溶剂中含有大量有机物成分，在工艺过程中，这些有机溶剂大部分通过挥发成为废气排放。其废气的主体是VOCs，同时废气中还混合了HCl、氨、HF等危险污染物。

半导体有机废气处理办法

采用RTO设备处理

RTO蓄热式氧化炉是在高温下将可燃废气氧化成氧化物和水，净化废气，并回收废气分解时所释放出来的热量，废气分解效率达到99%以上，热回收效率达到95%以上。

直接燃烧法处理

有机废气风管废气收集→沸石转轮吸附浓缩→直燃炉（TO）→烟囱排气达标排放。

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半导体酸碱废气处理方法

半导体行业酸碱废气处理通常采用液体喷淋法，又称化学洗涤法。因液体自身具有的溶解特性，可以更好地捕捉沉降，溶解去除污染物，而达到大气排放标准，故喷淋法是半导体行业酸碱废气治理普遍采用的主要处理方法。

半导体有机废气处理方法

半导体行业有机废气处理方法，通常先用沸石转轮对VOCs进行吸附浓缩之后，再用直接燃烧法进行销毁，废气净化率达到97%以上。

直接燃烧又称为直接火焰燃烧，它是把VOCs可燃组分直接烧掉，因此该方法适用于净化可燃有害组分浓度较高的废气，或者净化有害组分燃烧时热值较高的废气；多种可燃气体或多种溶剂蒸气混合在废气中，只要浓度值适宜，也可以直接燃烧。如果可燃组分的浓度高于燃烧上限，可以混入空气后燃烧；如果可燃组分的浓度低于燃烧下限，则可以加入一定数量的辅助燃料如天然气等，维持燃烧。

采用无尘空间，以及工人穿净化服是为了保证工作环境的颗粒以及温度，湿度达标，任何的颗粒以及温度湿度的不达标都有可能影响制造器件的工作性能以及可靠性

很负责任地告诉你部分工种是有辐射的！

最严重的事离子注入（半年体检一次，别的工种1年体检一次），因为有有害离子激发

光刻其实就和印照片的地方一样，黄光区域也有一定辐射

其他部门稍微轻微，但是制造厂里一般设备摆放比较密集，有些辐射你即使不在此部门工作也有可能受到，当然很轻微，所以净化服也有一定的防辐射作用，一般来说工作的安全还是可以得到保障的