半导体集成电路的制备工艺包括哪些步骤

半导体集成电路的制备工艺包括哪些步骤,第1张

IC的制备工艺相对复杂一点,但跟基本的晶体管、MOS工艺等差不多的。NPN管为例硅外延平面管的结构主要工艺流程:(1) 切,磨,抛衬底(2)外延(3)一次氧化(4)基区光刻(5)硼扩散/硼注入,退火(6)发射区光刻(7)磷扩散(磷再扩)(8)低氧(9)刻引线孔 (10)蒸铝(11)铝反刻(12)合金化 (13)CVD(14)压点光刻(15)烘焙(16)机减(17)抛光(18)蒸金(19)金合金(20)中测.

1.芯片,又称微电路(microcircuit)、微芯片(microchip)、集成电路(英语:integrated

circuit,

IC)。是指内含集成电路的硅片,体积很小,常常是计算机或其他电子设备的一部分。

芯片(chip)就是半导体元件产品的统称。是集成电路(IC,

integrated

circuit)的载体,由晶圆分割而成。

硅片是一块很小的硅,内含集成电路,它是计算机或者其他电子设备的一部分。

2.半导体(

semiconductor),指常温下导电性能介于导体(conductor)与绝缘体(insulator)之间的材料。半导体在收音机、电视机以及测温上有着广泛的应用。如二极管就是采用半导体制作的器件。半导体是指一种导电性可受控制,范围可从绝缘体至导体之间的材料。无论从科技或是经济发展的角度来看,半导体的重要性都是非常巨大的。今日大部分的电子产品,如计算机、移动电话或是数字录音机当中的核心单元都和半导体有着极为密切的关连。常见的半导体材料有硅、锗、砷化镓等,而硅更是各种半导体材料中,在商业应用上最具有影响力的一种。

物质存在的形式多种多样,固体、液体、气体、等离子体等。我们通常把导电性差的材料,如煤、人工晶体、琥珀、陶瓷等称为绝缘体。而把导电性比较好的金属如金、银、铜、铁、锡、铝等称为导体。可以简单的把介于导体和绝缘体之间的材料称为半导体。

3.集成电路(integrated

circuit)是一种微型电子器件或部件。采用一定的工艺,把一个电路中所需的晶体管、电阻、电容和电感等元件及布线互连一起,制作在一小块或几小块半导体晶片或介质基片上,然后封装在一个管壳内,成为具有所需电路功能的微型结构;其中所有元件在结构上已组成一个整体,使电子元件向着微小型化、低功耗、智能化和高可靠性方面迈进了一大步。它在电路中用字母“IC”表示。集成电路发明者为杰克·基尔比(基于锗(Ge)的集成电路)和罗伯特·诺伊思(基于硅(Si)的集成电路)。当今半导体工业大多数应用的是基于硅的集成电路。

是20世纪50年代后期一60年代发展起来的一种新型半导体器件。它是经过氧化、光刻、扩散、外延、蒸铝等半导体制造工艺,把构成具有一定功能的电路所需的半导体、电阻、电容等元件及它们之间的连接导线全部集成在一小块硅片上,然后焊接封装在一个管壳内的电子器件。其封装外壳有圆壳式、扁平式或双列直插式等多种形式。集成电路技术包括芯片制造技术与设计技术,主要体现在加工设备,加工工艺,封装测试,批量生产及设计创新的能力上。

集成电路基本单元为半导体电阻,二极管,三极管组成。制作这些元器件,是根据计算机设计出的版图,在硅片上注入正离子或负离子。方法是在硅片涂满一层保护膜,让后通过光刻方式将需注入离子部分的保护膜去掉,然后像硅片注入离子,无保护膜部分被注入离子,形成P结(沟)或N结(沟),然后类似的方法制作其他布分。集成电路的导线,一般是电路连接的最后一道工序。同样用光刻,将需要布线的不部分裸漏出来,然后给硅片蒸铝,去掉保护膜后,原来裸漏布分被直接到硅片上的铝保留下来,形成导线。或者像PCB制作,先大面积蒸铝,然后涂保护膜,光刻,然后将不需要的部分票洗掉,形成导线。


欢迎分享,转载请注明来源:内存溢出

原文地址: http://outofmemory.cn/dianzi/7128297.html

(0)
打赏 微信扫一扫 微信扫一扫 支付宝扫一扫 支付宝扫一扫
上一篇 2023-04-02
下一篇 2023-04-02

发表评论

登录后才能评论

评论列表(0条)

保存