半导体中乙醇酸和氢氟酸混合作用

Q: 半导体中乙醇酸和氢氟酸混合作用 :

乙醇酸和氢氟酸混合可以用来清洗半导体表面。当这两种酸混合在一起时，它们会发生反应，产生氟化物，并形成一层薄膜，从而起到清洁的作用。乙醇酸有助于去除污垢，氢氟酸可以去除金属的氧化物。此外，乙醇酸也可以帮助去除金属的氧化物，使金属表面光滑。因此，乙醇酸和氢氟酸混合可以有效地清洁半导体表面，从而使半导体元件具有良好的性能。

主要是对硅晶片（Si wafer）的一系列处理

1、清洗 ->2、在晶片上铺一层所需要的半导体 ->3、加上掩膜 ->4、把不要的部分腐蚀掉 ->5、清洗

重复2到5就可以得到所需要的芯片了

Cleaning ->Deposition ->Mask Deposition ->Etching ->Cleaning

1、中的清洗过程中会用到硝酸，氢氟酸等酸，用于清洗有机物和无机物的污染

其中Deposition过程可能会用到多种器材，比如HELIOS等~

Mask Deposition过程中需要很多器材，包括Spinner，Hot plate，EVG等等~

根据材料不同或者需要的工艺精度不同，Etching也分很多器材，可以使用专门的液体做Wet etch，或者用离子做Plasma Etching等

最后一部的Cleaning一般是用Develpoer洗掉之前覆盖的掩模~

多数器材都是Oxford Instruments出的

具体建议你去多看看相关的英文书，这里说不清楚。。

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