半导体工艺废气如何高效处理?

半导体工艺废气如何高效处理?,第1张

半导体酸碱废气处理方法

半导体行业酸碱废气处理通常采用液体喷淋法,又称化学洗涤法。因液体自身具有的溶解特性,可以更好地捕捉沉降,溶解去除污染物,而达到大气排放标准,故喷淋法是半导体行业酸碱废气治理普遍采用的主要处理方法。

半导体有机废气处理方法

半导体行业有机废气处理方法,通常先用沸石转轮对VOCs进行吸附浓缩之后,再用直接燃烧法进行销毁,废气净化率达到97%以上。

直接燃烧又称为直接火焰燃烧,它是把VOCs可燃组分直接烧掉,因此该方法适用于净化可燃有害组分浓度较高的废气,或者净化有害组分燃烧时热值较高的废气;多种可燃气体或多种溶剂蒸气混合在废气中,只要浓度值适宜,也可以直接燃烧。如果可燃组分的浓度高于燃烧上限,可以混入空气后燃烧;如果可燃组分的浓度低于燃烧下限,则可以加入一定数量的辅助燃料如天然气等,维持燃烧。

集热盘又叫集热罩

是用来在喷头处收集热量的,设置集热罩的主要目的是提高喷头的反应灵敏度,提前进行喷头动作响应。因为着火时,火势往上窜,空间的温度最高值一般在吊顶、顶板区,但是受喷头的安装方式(侧喷)和安装位置(如地下室梁底,达不到喷头安装位置离顶板应小于等于15公分的要求)限制,不能在起火早期达到温度要求进行动作,所以要加集热罩来提高温度,让喷头在起火早期尽快动作

√ 楼主您好,根据您提出的问题,下面为您做详细解答:

半导体行业中使用的清洗剂、显影剂、光刻胶、蚀刻液等溶剂中含有大量有机物成分,在工艺过程中,这些有机溶剂大部分通过挥发成为废气排放。其废气的主体是VOCs,同时废气中还混合了HCl、氨、HF等危险污染物。

半导体有机废气处理办法

采用RTO设备处理

RTO蓄热式氧化炉是在高温下将可燃废气氧化成氧化物和水,净化废气,并回收废气分解时所释放出来的热量,废气分解效率达到99%以上,热回收效率达到95%以上。

直接燃烧法处理

有机废气风管废气收集→沸石转轮吸附浓缩→直燃炉(TO)→烟囱排气达标排放。

希望此次回答对您有所帮助!


欢迎分享,转载请注明来源:内存溢出

原文地址: http://outofmemory.cn/dianzi/7129382.html

(0)
打赏 微信扫一扫 微信扫一扫 支付宝扫一扫 支付宝扫一扫
上一篇 2023-04-02
下一篇 2023-04-02

发表评论

登录后才能评论

评论列表(0条)

保存