光罩(英文:Reticle, Mask),在制作IC的过程中,利用光蚀刻技术,在半导体上形成图型,为将图型复制於晶圆上,必须透过光罩作用的原理,类似于冲洗照片时,利用底片将影像复制至相片上。
业内又称光掩模版、掩膜版,材质为石英玻璃、金属铬和感光胶,该产品是由石英玻璃作为衬底,在其上面镀上一层金属铬和感光胶,成为一种感光材料,把已设计好的电路图形通过电子激光设备曝光在感光胶上,被曝光的区域会被显影出来。
在金属铬上形成电路图形,成为类似曝光后的底片的光掩模版,然后应用于对集成电路进行投影定位,通过集成电路光刻机对所投影的电路进行光蚀刻,其生产加工工序为:曝光、显影、去感光胶,最后应用于光蚀刻。
光罩为什么这么贵?
随着半导体晶圆制程技术的飞速发展,半导体制造厂持续遵循摩尔定律,不断挑战更先进的制程。而谈到先进制程,很多芯片设计公司的第一反应都是光罩很贵。
动辄几十万到百万美金级别的光罩费用,是怎么来的,这样的费用合理吗? 在解答这个问题之前,我们来看看什么是光罩,以及光罩是怎么制作的。
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