半导体中乙醇酸和氢氟酸混合作用

Q: 半导体中乙醇酸和氢氟酸混合作用 :

乙醇酸和氢氟酸混合可以用来清洗半导体表面。当这两种酸混合在一起时，它们会发生反应，产生氟化物，并形成一层薄膜，从而起到清洁的作用。乙醇酸有助于去除污垢，氢氟酸可以去除金属的氧化物。此外，乙醇酸也可以帮助去除金属的氧化物，使金属表面光滑。因此，乙醇酸和氢氟酸混合可以有效地清洁半导体表面，从而使半导体元件具有良好的性能。

氢氟酸

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Image:03wiki-zn-frontpage-icon.gif氢氟酸正在翻译。

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氢氟酸是氟化氢的水溶液，具有强烈的腐蚀性。纯氟化氢有时也称作无水氢氟酸。听起来可能很荒谬，尽管理论上氢氟酸是一种弱酸——这是因为氢原子和氟原子间结合的能力相对较强，使得氢氟酸在水中不能完全解离。但是氢氟酸却能够溶解很多其他酸都不能溶解的玻璃（二氧化硅），因此臭名昭著。（反应方程式如下：）

SiO2(s) + 6 HF(aq) → H2[SiF6](aq) + 2 H2O(l)

正因如此，它必须储存在塑料容器中（理论上讲，放在聚四氟乙烯做成的容器中会更好）。氢氟酸还是一种还原剂，如果要长期储存，不仅需要一个密封容器，而且容器中应尽可能将空气排尽。而氢氟酸能够溶解绝大多数无机氧化物的能力也正是拜它的还原性所赐。

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生产

工业上用萤石（氟化钙 CaF2）和浓硫酸来制造氢氟酸。

加热到250摄氏度时，这两种物质便反应生成氟化氢。反应方程式为：

CaF2 + H2SO4 → 2 HF + CaSO4

这个反应生成的蒸气是氟化氢、硫酸和其他几种副产品的混合物。在此之后氟化氢可以通过蒸馏来提纯。

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用途

由于氢氟酸溶解氧化物的能力，它在铝和铀的提纯中起着重要作用。氢氟酸也用来蚀刻玻璃，半导体工业使用它来除去硅表面的氧化物，在炼油厂中它可以用作异丁烷和丁烷的烷基化反应的催化剂，除去不锈钢表面的含氧杂质的“浸酸”过程中也会用到氢氟酸。

氢氟酸也用于多种含氟有机物的合成，比如Teflon(聚四氟乙烯）还有氟利昂一类的致冷剂。

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安全性

在人体内部，氢氟酸与钙离子和镁离子反应，正因为如此，它会使靠以上两种离子发挥机能的器官丧失作用。接触、暴露在氢氟酸中一开始可能并不会疼痛，而症状可能直到几小时后氢氟酸与骨骼中的钙反应时才会出现。如果不进行处理，最终可能导致心、肝、肾和神经系统的严重甚至是致命损伤。

接触氢氟酸后的初始救护措施通常包括在接触部位涂上葡萄糖酸钙凝胶。如果接触范围过广，又或者延误时间太长的话，医护人员可能会在动脉或周围组织中注射钙盐溶液。但无论如何，接触氢氟酸后必须得到及时并且专业的护理。

即使能得到及时治疗，身体表面少于10%的面积暴露在氢氟酸中也会是致命的。（身体少于2%的面积暴露在氢氟酸中也有可能是致命的。见[1]）吞服高浓度的氢氟酸溶液会导致急性的低血钙症，引致心脏停搏及死亡。

在炼油厂中它可以用作异丁烷和丁烷的烷基化反应的催化剂，它在铝和铀的提纯中起着重要作用。氢氟酸也用于多种含氟有机物的合成由于氢氟酸溶解氧化物的能力，半导体工业使用它来除去硅表面的氧化物，除去不锈钢表面的含氧杂质的“浸酸”过程中也会用到氢氟酸，比如Teflon(聚四氟乙烯）还有氟利昂一类的致冷剂。氢氟酸也用来蚀刻玻璃

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