打破美国芯片垄断！上海将量产12nm芯片，欧盟17国为研发将斥万亿

虽然目前特朗普已经下台，但是他执政期间颁布的芯片断供政策所造成的影响却仍存在。以目前来说，美国推行的芯片断供政策可谓是“一石四鸟”，当这一政策出台后，率先受到影响的无疑是被美国针对的中国企业；紧跟其后的却是因流失中国买家，导致芯片大量囤积，造成经济损失严重的美国芯片企业；随着该政策的影响的不断扩散，欧洲半导体行业也惨遭波及；此外，近段时间里包括大众、本田、福特在内的8家 汽车 巨头也齐齐发声，由于芯片供应短缺，将暂停部分 汽车 生产线。

诚然，中美间的“芯片贸易战”已经演变成“全球芯片大战”。在这一情况下，为了摆脱对美国芯片的高度依赖，打破美国在芯片领域的垄断，中国及欧盟诸多国家在芯片自主研发方面进一步加大推行力度。据新华 财经 1月25日报道，2021年，上海将争取实现12nm芯片先进工艺的规模量产。现阶段，汇聚在上海的芯片企业有中芯国际、华为海思、紫光等。其中，2000年正式成立的中芯国际的总部就坐落于上海，经过多年来的不断发展，中芯国际已经成为了国内芯片制造的巨头企业。

据了解，中芯国际在12nm芯片工艺方面已经取得了较大突破。去年12月，中芯国际表示，将在2020年底小批量试产第二代FinFETN+1芯片。据悉，第二代FinFETN+1芯片工艺正是达到了12nm，与一代14nm芯片相比，前者的晶体管尺寸进一步缩减，功耗与错误率均降低20%，总体性能则是提升10%。

此外，报道指出，2020年7月，国家相关部门为助力上海芯片产业的发展宣布投资1600亿元人民币。相信在国家的支持和帮助及中芯国际等巨头企业的助力下，上海实现12nm芯片先进工艺的规模量产目标将指日可待，这也意味着中国国产芯片的发展将有望迈上新的台阶。

同样，与中国一样致力于发展本国半导体产业技术研发的还有欧盟国家。受到美国芯片断供政策的影响，欧盟芯片企业无法正常对华为等中企出售芯片，导致这些公司的销售业绩出现严重下滑。为了在全球半导体产业争取到更多的话语权，包括法国、德国在内的17个欧盟国家在去年12月25日表示，为推动欧洲半导体产业的技术研发进程，将在未来2-3年内投资1450亿欧元（约合人民币1.14万亿元）。

中芯国际2020年实现12nm量产，2021年会在提升良率和产量上下功夫。中芯上海2020年底产能是1.5万片/月，按每片可切300-500片芯片，年产能7200万片逻辑芯片。

目前展锐t7510，平头哥的玄铁910，龙芯3a5000，兆芯kx6000，飞腾的ft2000等代表国内先进水平的逻辑芯片，基本用12/14nm工艺，这些厂商年销100万到几百万片，完全可以支撑，另外这些芯片至少有两年的热卖期。然后大家升级到7nm（非euv），再干两年，国产euv光刻机就出来了，这样5年时间，国产半导体供应链就成熟了。

其实特别建议华米ov的低端手机能用展锐的soc，展锐的工艺可混用台积电和中芯国际的工艺，如红米9a采用展锐的t7510，展锐用中芯国际12nm工艺，这样一年就有几千万片的销量，达到规模应用，这样国产产业链才能更成功。

先给出结论，再说原因。大概率不会推动国内半导体发展。原因如下：

一、这个12纳米的小规模量产，是中芯国际的公司行为。也就是说，这是公司的专属技术，不是科学研究机构的成果，因此这个12纳米的生产技术不会无偿扩散。中芯国际一定会想办法将这一先进工艺利益最大化。很显然技术扩散不利于利益最大化，当然就不可能轻易技术扩散了。

二、12纳米技术所使用的关键设备材料都是外国产品，单独12纳米工艺的突破，不具有推广性。因为想要模仿中芯国际的工艺，必须在人财物方面都达到与中芯国际类似的高度。现在还没有一家国内公司可以与中芯国际在技术和人才上比较，因此是想推广也没可能推广。

三、这个12纳米制程技术，目前只是小批量的量产实验，成本极高，很可能没有商用化的前途，现在说推广还是太乐观。如果这个技术始终无法跨越成本线，就属于失败的量产了。在还没有确认量产成功之前，就说推广是很不负责的事情，也没有其他公司会跟进。

四、最后，12纳米芯片的制程中使用了太多国内不能控制的设备和材料，一旦推广，极有可能形成新的卡脖子问题。芯片投资极大，一旦钱投进去，外国供应商就可以随意控制价格和供应量，属于自己往敌人q口下撞的行为，还不如回头踏踏实实地去搞28纳米的全国产化来的实际。

综上四个理由，这次中芯国际在上海的12纳米芯片小批量量产属于孤立事件，没有什么可推广的意义。

我国低端制造业已经乏力了，必须发展高 科技 产品。2000到2010发展沿海城市，2010到2020发展省会城市，2020到2030发展 金融 科技 和医疗。所有的问题都是解决就业问题，其他全扯淡。

能

芯片是中国制造2025重点攻关项目。

上海 科技 企业作出了贡献全国 科技 企业都要出力。

12纳米芯片的量产是中国芯片技术全面崛起的征兆。

一直以来，半导体行业都是国内产业生产的薄弱之处，很多技术都依赖于外企。

像EUV光刻机、芯片核心制造技术以及高端光刻胶等方面，但同样我们在芯片设计、封测技术等方面也占据了世界前列的位置。

如今，随着局势的变化，华为因芯片断供产生的后续影响已经初步显现，它让国产其他相关企业认识到只有自己掌握了核心技术才能避免在这些方面受到技术上的"卡脖子"。

11月13日，根据新浪 财经 最新报道，国内光刻胶领域迎来好消息，对于国内7nm芯片制造或可迎来重大突破。消息显示，国内宁波南大光电材料有限公司已正式宣布，首条ArF光刻胶生产线已经正式投入生产，预计项目完成后年销售额达10亿元。

目前该公司已经将生产出来的ArF光刻胶样品送至客户手中进行测试，如果测试成功，那么该公司将迎来更多ArF光刻胶方面的订单。

或许有小伙伴不太了解ArF光刻胶。

光刻胶在芯片生产中起到很关键的作用，可以说它是集成电路产生制造中的核心材料，对于芯片最终呈现的质量和性能方面都有很大的影响，因而光刻胶的成功对于生产制造芯片也有很大的帮助。

目前来说，虽然国内不乏有主营光刻胶的企业，但在ArF光刻胶这样的高端种类却几乎100%依赖于外企，而ArF光刻胶在对于28nm-7nm工艺芯片的生产起到至关重要的作用，因而可以说这一次在ArF光刻胶上的突破也预示着在7nm芯片制造上迎来突破！

根据资料显示，目前高端光刻胶主要集中于美企和日企手中，所占份额达全球光刻机份额的95%，而这一次宁波南大光电材料有限公司在ArF高端光刻胶中的突破也预示着国产半导体的逆势崛起，将打破美日企业在高端光刻胶领域上的垄断。

不过，想要避免外资企业在技术上的垄断，光靠一家公司明显后劲不足，但就如今的发展趋势来说，目前国产半导体相关企业已经纷纷在各自的领域中寻找突破之路。

上海微电子、上海华虹半导体、晶瑞股份等公司在芯片生产工艺上以及光刻机上等方面寻求突破口，照这样的趋势发展，未来国产半导体行业将迎来新生！

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