芯片大基金又有3人被查，多家上市公司紧急公告，哪些信息值得关注？

严查各芯片半导体公司是好事，因为就目前而言，我们自己的芯片确实不行，也称不上高端，包括我们制造电车需要的芯片也都是要进口的。而不论是新能源车制造，还是芯片半导体行业，我们都有大量的公司用垃圾项目欺上瞒下骗去高额的国家补贴。拿着国家的钱不好好搞研发却拿去炒股割韭菜，确实应该好好整顿一下了，这样我们才能真正在后续的国际竞争中获胜。这就是为啥今年芯片跌跌不休的原因吧，说白了，脖子都是自己人卡的，基金股票集资了那么多，你们套利去外面潇酒。如果你在房间里看见了一只老鼠，那么在看不见的角落，肯定已经满了。希望国家能严厉出手，把这些硕鼠抓出来。

这是很正常的事情，政策扶持一定会出现这种情况，光伏、屏幕、新能源都经历了“大水漫灌、野蛮生长—抓人、破产潮、合并潮”的过程，而且有的还不止一次。指望一分一厘都不浪费那是痴人说梦，抱着这种心态就永远不要投资了，我看芯片行业至少要经历三个这样的周期才行。现在人也抓了，全球芯片行业也进入下行阶段，我希望倒闭潮快点来临，市面上90%的半导体公司其实都可以不用存在，早点死了或者被吞并还能进一步整合资源，然后进入下一轮放水周期。

以前我们说芯片行业急功近利不可取，如今来看现实情况可能要更糟。以史为鉴，近代中国科技岷起走向富强的道路上不光有受人尊敬的实干派、科学家与研发人员，还有罪犯、骗子和投机者混迹其中欺世盗名。做出贡献的人青史留名，搅局破坏的严惩重判，有多少查多少就完事儿了！国内芯片产业想要发展，第一步必须要把这些蛙虫给清理干净，要不然后续他们给国家造成的损失只会越来越大！

咱们的芯片产业本来就处于补课阶段，相关研究工作与国内产业链都需要大力扶持，行业生态想要构建还怕构建不好呢，业内人才想要呵护还怕呵护不过来呢，却偏偏有那么一群唯利是图的小人在这个关头挂羊头卖狗肉，大肆敛财，真的是丧心病狂！千古罪人陈进是诈骗芯片资金的第一人还卷款11亿跑去美国混得风生水起国家芯片不行也许不是技术不行而是钱都被坏人贪污了真正搞科研和到技术专家手里的钱已经屈指可数难怪这么多年搞不起来确实该一边鼓励一边严查严厉打击贪污腐败恶劣行径！个人觉得想要发展芯片就应该实施整合，然后和国内有实力的公司合作，还有需要高端芯片的公司！一起努力才有破局的希望！而不是一味的拿钱出去补贴，各自玩自己的太分散了。科技板块好不容易有点起色，闹出这种事，感觉今天又是低开低走的一天。

管那么多有的钱，每天面临各种顶级诱惑，能管住自己的太少，这正常明朝一次贪腐连根拔除，杀掉三万多人，换新人也一样，有些东西不改就没办法，尽管大基金减持和部分腐败分子的行为对资本市场产生了恶劣的影响，但不可否认的是成立集成电路大基金这个决策毫无疑问是正确的。在这接近10年里，在国家大基金的支持下存储器方面，我们有了自己的两大国家存储器基地长鑫存储和长江存储，相关存储产品已经上市解决了0-1的问题，并且距离头部存储厂三星，海力士，美光的代差已经不足一代。代工方面，尽管经常诉病，中芯国际还是推进到了代工问题，今年即将成为仅次于台积电，三星的世界第三大代工厂。

在设备方面，在光刻，沉积，刻蚀三大工艺中，我们已经有两项进入了先进制程，中微公司已经有了5nm制程的刻蚀机打入了台积电供应链，北方华创在14-90nm的pvd，cvd，ALD设备均取得突破设计方面，有了兆易创新，韦尔股份等大型设计公司。封测方面，长电科技，华天科技，通富微电占据了世界十大封测厂的3席。这个成绩在世界半导体发展历史上绝对是可以称得上迅速的，我们也坦白承认和世界一流还有一定差距，但这几年的发展史和对面的反应都证明了我们的策略是正确的，只要咬紧牙关不放松，就一定能取得成功。我们需要反腐，但绝不能因为少数腐败分子存在，放弃对未来发展的支持。

我不是半导体行业从业人员，但是我在某乎多次被人私信问一些半导体相关的事情。其中有一次，一个应届生被领导要求给一个半导体项目提意见，她不知道怎么办，在知乎上求助。可能是只有我回复她了，她就让我加她微信私聊。我看了项目书，那真的是文档格式没问题，话术也写的没问题。但是粗看应用层面，这使用场景压根没戏啊，最重要的资源被别的行业占据着呢，别的行业那就是政企合一啊，别的行业压根不会把那么赚钱的资源让出去给那么不赚钱的使用场景，最重要的还是赚钱就跟别的行业没关系了。

项目书里面也没有考虑半导体代工厂的事情，那个时候半导体产能紧张多严重啊，也没有考虑流片成本的问题。还有人才招聘问题，不是在四个一线城市，也不是在几个强二线城市，上哪里去招聘那么多技术人员，也完全没有考虑。写的不是PPT演示文稿，是word文档，格式和话术真不错。我都想将来创业，照着那个模板来了。至于可行性，把钱骗到手不就完了嘛，投资人的投资和政府补贴花完了再说。有很多答友认为芯片产业是骗局，我认为不是。如果是骗局，收网太早了些。

作为一种高度可精准控制的材料制备方法，原子层沉积（ALD）技术目前已成为半导体芯片、柔性显示、太阳能电池及锂电池等领域中最热门的薄膜材料沉积技术。由于国内缺少相关的关键技术，ALD设备被国外设备大厂垄断，国内ALD量产设备制造企业几乎空白。随着国外先进技术的引进和国内自主研发的不断推进，国内出现了在技术水平上能跟国外技术相媲美的ALD设备制造厂商，如深圳市原速光电科技有限公司。原速光电推出了研发型和生产型的Exploiter系列原子层沉积系统，性能指标优越，加上全方位的材料工艺研发和材料制备服务，足以满足用户的使用需求。有兴趣的可以进他们的官网进一步了解一下！

cvd：Chemical Vapor Deposition 化学气相沉积，众多薄膜沉积技术中的一种。pvd:（Vapor )，指利用物理过程实现物质转移，将原子或分子由源转移到基材表面上的过程。ALD:原子层沉积。拓展由于低温沉积、薄膜纯度以及绝佳覆盖率等固有优点，ALD（原子层淀积）技术早从21世纪初即开始应用于半导体加工制造。DRAM电容的高k介电质沉积率先采用此技术，但近来ALD在其它半导体工艺领域也已发展出愈来愈广泛的应用。

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