FFU的工作过程和原理?

FFU的工作过程和原理?,第1张

FFU全称为 Fan Filter Units, 中文意思为“风机滤网单元”。确切地说是一种自带动力、具有过滤功效的模块化的末端送风装置。风机从FFU顶部将空气吸入并经初效过滤器、HEPA高效过滤,采用独特的风道,过滤后的洁净空气在整个出风面以0.45m/s±20%的风速均匀送出。

一般万级无尘室所用的高效过滤器(效率为欧标H13),它能对空气中粒径为0.3um的微粒子过滤效率达到99.99%。采用这种机组,可以为洁净室输送高质量的空气,而且空气流通好。

它广泛应用于高洁净度环境、超洁净工作台、高洁净度生产线等场所,用于半导体、电子、平板显示器和磁盘驱动器的厂家及光学、生物工业及其他对空气中污染有严格控制要求的地方。

扩展资料

常用FFU外形尺寸(mm):1175*575*340,噪声小于50分贝。FFU箱体和高效过滤器采用分体式设计,安装更换高效更方便。

风机采用直驱式离心风机,好的风机工作时间长达5万小时以上,最差的80元一个的风机工作时间一般为8000小时,并且风量衰减较快。FFU壳体一般选用覆铝锌板、镜面不锈钢等制做,美观大方。

FFU配套的无隔板高效过滤器简称HEPA,常用尺寸是1175*575*70,一般使用玻璃纤维滤纸,热熔胶,AB组份粘胶,铝合金制作。

国内仅有少数几家采用欧标EN779标准测试台,并使用激光粒子计数器逐台扫描检测,确保质量。需要注意多数小型厂家的HEPA材料偷工减料,没有逐台检测,实际使用效果很差,寿命很短。

如果单纯考虑过滤颗粒物,FFU是目前市场上最便宜的空气净化器,在性价比上要比家用空气净化器高很多,而且容尘量巨大,过滤效果也非常好。

参考资料来源:百度百科-风机过滤机组

有啊,比如清洗半导体硅片。随着半导体材料技术的发展,对硅片的规格和质量也提出更高的要求,适合微细加工的大直径硅片在市场的需求比例将日益加大。半导体,芯片,集成电路,设计,版图,芯片,制造,工艺目前世界普遍采用先进的切、磨、抛和洁净封装工艺,使制片技术取得明显进展。最新尖端技术的导入,使SOI等高功能晶片的试制开发也进入批量生产阶段。对此,硅片生产厂家也增加了对300mm硅片的设备投资,针对设计规则的进一步微细化。利用超声波清洗技术,在清洗过程中超声波频率在合理的范围内往复扫动,带动清洗液形成细微回流,使工件污垢在被超声剥离的同时迅速带离工件表面,提高清洗效率。

超声波清洗方法及其放置方向

将被洗研磨硅片水平状放置在清洗槽底部上方栅栏状的石英棒框架上,在确保清洗槽内具有去离子水高度并不断流动的条件下,利用设在清洗槽底部的超声波振子进行清洗,超声波频率为40KHz,每5分钟将研磨硅片翻一个面,连续超洗至被超洗的研磨硅片表面没有黑色污染物冒出止。超声波清洗单晶硅片装置清洗槽的槽壁上设有进水口和出水口,槽底部下方设有超声波振子,清洗槽槽内设有一搁置单晶硅片的框架,框架底壁为栅栏状的石英棒形成的平面低于去离子水水平面,整个框架由支撑脚支撑在清洗槽内。

具体实施时,石英棒距离清洗槽的底壁为15厘米。清洗时,单晶硅片可以平置在石英棒上,将现有的竖超洗改成平超洗,消除了单晶硅片在竖超洗状态下,污染物会残留堆积在硅片表面,形成局部区域清洗不干净,以及承载硅片的软体花篮会吸附和阻挡掉超声波源的传递,从而造成硅片表面局部区域清洗不干净的现象,具有结构更简单、用水量大大减少的优点。

集成电路无尘车间是为了满足半导du体制造工艺需求的洁净室,该无尘车间对环境洁净度、温湿度、振动、ESD、AMC控制等都有一定的要求。相对于其他工业洁净室,集成电路制造无尘车间有面积大、洁净等级高、温湿度控制精度高等特点。

远程在线式遥测激光尘埃粒子计数器是几乎每个精密电子车间必不可少的设备,如果在我们的半导体车间中有这样一种监测颗粒浓度的仪器,那么我们在办公室时就可以轻松了解车间中尘埃粒子情况,实现产品生产与监督智造的智能体验。例如,当我们检测到车间内的颗粒浓度过高时,我们可以及时通知相应车间的负责人,并采取针对性的措施降低颗粒浓度,以达到安全可靠的标准,这非常有利于产品的安全生产,为客户提供可靠的高质量产品。

CW-RPC系列远程遥测激光尘埃粒子计数器是深圳赛纳威研发的智能多点净化检测系统的终端设备,不仅可以为用户提供实时准确地远程测量所监控环境的微粒数量和净化等级,根据不同需要增加或减少控制终端,还可以实现7*24实时远程自动监测,通过RJ45网络接口、WiFi、485(moudbus)等,将数据送给PC终端,显示当前监测环境的洁净状况。该粒子计数器按照国际标准ISO14644-1,GMP和日本工业标准(JIS)要求标定,专业应用于电子行业、制药车间、半导体、光学或精密机械加工等洁净室环境自动监测系统。


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