光刻版灰尘不小心用手碰到了怎么清洗

比较常见的方法是通过有机溶剂将其溶解的方法将其去除，例如利用丙酮浸泡光亥刻版，在浸泡的同时可以超声提高浸泡效果。

光刻板清洗工艺：

光刻胶及其他有机污染物的去除，对于比较干净的光刻版，浸泡基本就能将有机污染物去除干净。对于光刻胶较多的光刻版，浸泡只能将光刻胶泡软，还需要用无尘布或无尘棉蘸丙酮轻轻擦洗，或在光刻版清洗设备中采用毛刷刷洗，通过外力将顽固的光刻胶去除掉。

毛刷刷洗光刻版匀速旋转，喷嘴向光刻版表面喷洒丙酮等化学液，使得光刻胶由于溶解而变得松软，然后毛刷接触到光刻板表面，光刻板旋转时与毛刷产生相对运动，辅以喷嘴喷出的化学液，对光刻版表面起到刷洗作用。

刷洗完成后，通常采用高压 DI 水冲洗光刻版，通过高压微细水滴的冲击力去除仍然吸附在光刻版表面的剩余光刻胶。

基本信息：

光掩膜是刻有微电路的版，光刻版，由表面纯平并带有一层铬的石英板或玻璃板制作而成，蚀刻后的残留铬部分即为设计的微电图。这种制版方式在掩膜行业称为光透。

半导体集成电路制作过程通常需要经过多次光刻袭工艺，在半导体晶体表面的介质层上开凿各种掺杂窗口、电*接触孔或在导电层上刻蚀金属互连图形。光刻工艺需要一整套（几块zhidao多至十几块）相互间能套准的、具有特定几何图形的光复印掩蔽模版。

等离子清洗机表面处理机应用包括处理、灰化、改性、蚀刻等过程。选择等离子清洗设备，不仅能彻底除去光刻胶和其他有机物，而且能激活晶圆表面，提高晶圆表面的润湿性。聚合物、包括形状不一的槽孔和狭长的孔洞内的微粒，使用等离子可以轻而易举清洗掉。

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