(2)设前后两个表面相距为L,电子所受的电场力等于洛仑兹力
e
UH |
L |
设材料单位体积内电子的个数为n,材料截面积为s
I=nesv ③
s=dL ④
由②③④得:
UH=
BI |
ned |
令k=
1 |
ne |
BI |
d |
(3)增大电流I、减小厚度d 和减小截流子的密度
答:(1)M点电势高.
(2)证明如上所示.
(3)增大电流I、减小厚度d 和减小截流子的密度
欢迎分享,转载请注明来源:内存溢出
(2)设前后两个表面相距为L,电子所受的电场力等于洛仑兹力
e
UH |
L |
设材料单位体积内电子的个数为n,材料截面积为s
I=nesv ③
s=dL ④
由②③④得:
UH=
BI |
ned |
令k=
1 |
ne |
BI |
d |
(3)增大电流I、减小厚度d 和减小截流子的密度
答:(1)M点电势高.
(2)证明如上所示.
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