真空泵广泛用于冶金、化工、食品、电子镀膜等行业。。
真空泵是利用机械、物理、化学或物理化学的方法对被抽容器进行抽气而获得真空的器件或设备。通俗来讲,真空泵是用各种方法在某一封闭空间中改善、产生和维持真空的装置。
真空泵的泵体的布置结构决定了泵的总体结构,立式结构的进、排气口水平设置,装配和连接管路都比较方便。但泵的重心较高,在高速运转时稳定性差,故这种型式多用于小泵。
卧式泵的进气口在上,排气口在下。有时为了真空系统管道安装连接方便,可将排气口从水平方向接出,即进、排气方向是相互垂直的。此时,排气口可以从左或右两个方向开口,除接排气管道一端外,另一端堵死或接旁通阀。这种泵结构重心低,高速运转时稳定性好。一般大、中型泵多采用此种结构。
泵的两个转子轴与水平面垂直安装。这种结构装配间隙容易控制,转子装配方便,泵占地面积小。但泵重心较高且齿轮拆装不便,润滑机构也相对复杂。
扩展资料干式机械真空泵的应用:
1、低压化学气相沉积中的多晶硅制备工艺中;
2、半导体刻蚀工艺。在这些生产工艺中往往用到或生成腐蚀性气体和研磨微粒;
3、除半导体工艺外的某些产生微粒的工艺,不希望微粒混入泵油中,而希望微粒排出泵外,则用一定型式的干式机械真空泵可以满足要求;
4、在化学工业、医药工业、食品工业中的蒸馏、干燥、脱泡、包装等,要防止有机溶剂造成污染,适合用干式真空泵;
5、用做一般无油清洁真空系统的前级泵,以防止油污染。
参考资料来源:百度百科-真空泵
参考资料来源:百度百科-干式真空泵
iH600 干式泵 460V,60 Hz,3 相
A59020908
概述
Edwards 高级半导体真空泵已经过现场应用证明,可以按照最高工作标准运行。通过延长使用寿命、提高运行时间并提高生产率,同时最大程度地减小占地面积、降低运行成本,实现了高的可靠性和性能。
iH 系列为难以执行的制程(如存在微粒、易冷凝和腐蚀性副产品的 PECVD 和 LPCVD 制程)提供了高可靠性。
应用
负载锁
输送
计量
平版印刷
PVD 制程
PVD 预清洁
RTA
剥离/灰化
刻蚀
植入源
HDP CVD
RTP
SACVD
MCVD
PECVD
LPCVD
ALD
iH600 干式泵 460V,60 Hz,3 相
A59020908
iH600 干式泵 200/208V,50/60 Hz,3 相
A59020945
iH600 干式泵 380/415V,50 Hz,3 相
A59020946
iH600 干式泵 230V,60 Hz,3 相
A59020957
功能和优势
优化了设施消耗。
无需预防性维护。
悬臂轴和特殊的异型转子便于颗粒的处理。
在节省电机功率的同时最大程度提高了工作繁重的 CVD 应用条件下的稳定性。
耐腐蚀的制造材料允许泵送腐蚀性气体。
较高的工作温度为避免气体冷凝提供了充分的安全保证。
整体式轴杆无需使用电机联结器,而第五级泵消除了使用消音器的需要并消除了颗粒堆积,从而降低了总体占地面积。
技术数据
峰值速度 600 m3h-1
353 cfm
10000 l min-1
极限真空 7 x 10-4 mbar
5.3 x 10-4 Torr
0.07 Pa
典型轴封氮流量 4 slm
进气口连接 ISO100
出口连接 NW40
15 psi 压降下典型冷却水流量 240 l h-1
4 l min-1
重量 415 kg
极限功率输入 3.4 kW
电机额定功率 6.1 kW
油容量 1.43 l
所有数字均为无气镇时的典型值。
性能
尺寸
1 进气口
2 出口
3 抽风口
4 变频器箱(仅限 iH1000)
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