激光快速退火原理

激光退火技术开始主要用于修复离子注入损伤的半导体材料,特别是硅.传统的加热退火技术是把整个工件放在真空炉中,在一定的温度(300°～1200℃)保温退火10～60min。 可控硅又叫晶闸管，是晶体闸流管(Thyristor)的简称，俗称可控硅，指的是具有四层交错P、N层的半导体装置。最早出现的一种是硅控整流器（Silicon Controlled Rectifier，SCR），中国大陆通常简称可控硅，又称半导体控制整流器，是一种具有三个PN结的功率型半导体器件，为第一代半导体电力电子器件的代表。晶闸管的特点是具有可控的单向导电，即与一般的二极管相比，可以对导通电流进行控制。晶闸管具有以小电流（电压）控制大电流（电压）作用，并体积小、轻、功耗低、效率高、开关迅速等优点，广泛用于无触点开关、可控整流、逆变、调光、调压、调速等方面。

真空热处理炉子适用范围：

 主要用于高速钢、冷热作工模具钢、马氏体不锈钢、d性合金、高温合金、磁性材料和钛合金的真空热处理、真空钎焊和真空烧结等。 该炉即适用于同一钢种批量生产，又适用于多规格、多品种单件或小批量生产。.

真空退火炉适用范围：

      主要用于高速钢、冷热作模具钢、不锈钢、d性合金、高温合金、磁性材料和钛合金的真空热处理以及真空钎焊、真空烧结和不锈钢光亮退火、铝合金退火等。详情：网页链接

对材料进行退火处理。激光退火设备是利用激光对材料进行退火处理的加工方法，应用学科机械工程，是把整个工件放在真空炉中。激光退火设备开始主要用于修复离子注入损伤的半导体材料，退火是一种金属热处理工艺，指的是将金属缓慢加热到一定温度，保持足够时间，以适宜速度冷却。

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