乙醇酸和氢氟酸混合可以用来清洗半导体表面。当这两种酸混合在一起时,它们会发生反应,产生氟化物,并形成一层薄膜,从而起到清洁的作用。乙醇酸有助于去除污垢,氢氟酸可以去除金属的氧化物。此外,乙醇酸也可以帮助去除金属的氧化物,使金属表面光滑。因此,乙醇酸和氢氟酸混合可以有效地清洁半导体表面,从而使半导体元件具有良好的性能。
这个怎么像是我们公司用的设备啊。HF FUMER是一台机器,海运的时候是没有HF在里面的。
FUME就是雾气的一起,HF FUME还真不好翻译,原来就是用N2带出HF,也就是用带有HF的气体对产品进行腐蚀处理的方式。
HF FUMER就是这样的一台机器。
WET STATION,就是湿法腐蚀的机器,用液态的腐蚀液进行工艺的。
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