场效应晶体管(Field Effect Transistor缩写(FET))简称场效应管。由多数载流子参与导电,也称为单极型晶体管。它属于电压控制型半导体器件。根据三极管的原理开发出的新一代放大元件,有3个极性,栅极,漏极,源极,它的特点是栅极的内阻极高,采用二氧化硅材料的可以达到几百兆欧,属于电压控制型器件。
按结构场效应管分为:结型场效应(简称JFET)、绝缘栅场效应(简称MOSFET)两大类
按沟道材料:结型和绝缘栅型各分N沟道和P沟道两种.
按导电方式:耗尽型与增强型,结型场效应管均为耗尽型,绝缘栅型场效应管既有耗尽型的,也有增强型的。
场效应晶体管可分为结场效应晶体管和MOS场效应晶体管,而MOS场效应晶体管又分为N沟耗尽型和增强型;P沟耗尽型和增强型四大类.
MOS依照其“通道”的极性不同,可分为'N"沟与‘p“沟的MOSFET结构。
如图是典型平面N沟道增强型MOSFET的剖面图。它用一块P型硅半导体材料作衬底(图la),在其面上扩散了两个N型区(图lb),再在上面覆盖一层二氧化硅(SiO2)绝缘层(图1c),最后在N区上方用腐蚀的方法做成两个孔,用金属化的方法分别在绝缘层上及两个孔内做成三个电极:G(栅极)、S(源极)及D(漏极),如图1d所示。
平面N沟道增强型MOSFET从图中可以看出栅极G与漏极D及源极S是绝缘的,D与S之间有两个PN结。
一般情况下,衬底与源极在内部连接在一起。
扩展资料:
mos管是金属(metal)-氧化物(oxide)-半导体(semiconductor)场效应晶体管,或者称是金属-绝缘体(insulator)-半导体。
MOS管的source和drain是可以对调的,他们都是在P型backgate中形成的N型区。在多数情况下,这个两个区是一样的,即使两端对调也不会影响器件的性能。这样的器件被认为是对称的。
场效应管(FET),把输入电压的变化转化为输出电流的变化。FET的增益等于它的跨导, 定义为输出电流的变化和输入电压变化之比。市面上常有的一般为N沟道和P沟道,详情参考右侧图片(P沟道耗尽型MOS管)。而P沟道常见的为低压mos管。
P沟道mos管符号一个电场在一个绝缘层上来影响流过晶体管的电流。事实上没有电流流过这个绝缘体,所以FET管的GATE电流非常小。
最普通的FET用一薄层二氧化硅来作为GATE极下的绝缘体。这种晶体管称为金属氧化物半导体(MOS)晶体管,或,金属氧化物半导体场效应管(MOSFET)。因为MOS管更小更省电,所以他们已经在很多应用场合取代了双极型晶体管。
参考资料来源:百度百科-双极-CMOS集成电路
1、场效应管是电压控制器件,它通过VGS(栅源电压)来控制ID(漏极电流);
2、场效应管的控制输入端电流极小,因此它的输入电阻(107~1012Ω)很大。
3、利用多数载流子导电,因此它的温度稳定性较好;
4、组成的放大电路的电压放大系数要小于三极管组成放大电路的电压放大系数;
5、场效应管的抗辐射能力强;
6、由于它不存在杂乱运动的电子扩散引起的散粒噪声,所以噪声低。
扩展资料:
场效应管分为接合型场效应管和MOS型场效应管两类。
接合型场效应管即使栅极电压为零,也有电流流通,因此用于恒定电流源或因低噪音而用于音频放大器等。
MOS型场效应管因其结构简单、速度快,且栅极驱动简单、具有耐破坏力强等特征,而且使用微细加工技术的话,即可直接提高性能,因此被广泛使用于由LSI的基础器件等高频器件到功率器件(电力控制器件)等的领域中。
参考资料来源:百度百科——场效应管
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