超声波清洗时,在超声波的作用下,机械振动传到清洗槽内的清洗液中,使清洗液体内交替出现疏密相间的振动,液体不断受到拉伸和压缩。疏的地方受到拉伸,形成微气泡(空穴),密的地方受到压缩。由于清洗液内部受超声波的振动而频繁地拉伸和压缩,其结果使微气泡不断地产生和不断地破裂。微气泡破裂时,周围的清洗液以巨大的速度从各个方向伸向气泡的中心,产生水击。这和中现象可以通过肉眼直接观察到,即在清洗液中可以看到有剧烈活动的气泡,而且清洗浓夜上下对流。此时若将手指浸入清洗液中,则有强烈针刺的感觉,上述这种现象称为超声富空化作用。在超声空化作用一定时间后,被清洗件上的污垢逐渐脱落(当然也有清洗液本身的作用在内)。
--华杨沐林塑秋实,科卓海纳立顶峰
又有一定影响,超声波后会在半导体表面形成一层薄薄的水层(如果你是用去离子水超声,如果是用酒精或者是丙酮的话也会有一层有机物的)这层水分子层不会很多也就几个原子的量级,但是用氮气或者氩气其表面的话仍然也会有一点影响,但是导致其电阻是否变大还是变小就不清楚了,这要看你半导体电阻的真实值和水层的电阻大小有关,如果你不想这层水层有影响的话,超声后最好放到真空烘箱里面烘一下,温度设定在50到60度。如果没有条件的话,建议多测几次求平均值。当然除了水的影响,可能还会跟半导体表面的微结构有关系,超声波是一种能量,这个能量有没有可能导致半导体表面微结构发生改变,这我也不知道。但是通常我们认为是没有关系的,如果在超声前和超声后的电阻变化不大,可以认为是没有影响的,但如果相差很大的话,你可以考虑是不是超声导致你的半导体结构发生改变了。欢迎分享,转载请注明来源:内存溢出
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